Gebraucht CANON / ANELVA FC 7100 #9383066 zu verkaufen

CANON / ANELVA FC 7100
Hersteller
CANON / ANELVA
Modell
FC 7100
ID: 9383066
PVD System, 12" 2011 vintage.
CANON/ANELVA FC 7100 ist ein Mikrofabrikationsreaktor, der in der siliziumverarbeitenden Industrie, typischerweise in Halbleiter- und optoelektronischen Anwendungen, eingesetzt wird. Das System kombiniert einen Elektronenstrahlverdampfer, ein fokussiertes Ionenstrahl (FIB) -Ätzen und CVD-Prozesse (Chemical Vapor Deposition) zu einem hochautomatisierten und einfach zu bedienenden Werkzeug und ist somit ideal für eine Vielzahl komplexer Fertigungsaufgaben. Das System verwendet eine Hochleistungselektronensäule, um Material auf die Oberfläche des Substrats zu verdampfen. Der Elektronenstrahl ist fokussiert und ermöglicht eine präzise Kontrolle der Materialabscheidung. Mit diesem Verfahren können dünne Metallschichten auf einem Substrat abgeschieden werden, um Leiterbahnen oder Drähte auf einem Chip herzustellen. CANON FC 7100 ist auch in der Lage, mehrere Schichten von Materialien auf einem Substrat abzuscheiden, um eine 3D-Struktur zu schaffen. ANELVA FC7100 bietet auch fokussierte Ionenstrahl (FIB) Ätzfähigkeiten für die Herstellung von feineren Strukturen. Dieses Verfahren ist ideal für die Herstellung einer Vielzahl von Mustern auf der Oberfläche des Substrats. Das FIB-Verfahren verwendet einen geladenen Ionenstrahl, um Material von der Oberfläche des Substrats wegzuätzen. Damit können Nanostrukturen oder Muster auf einer Chipoberfläche erzeugt werden. Schließlich bietet CANON FC7100 System auch CVD-Fähigkeiten (Chemical Vapor Deposition). CVD ist ein Verfahren zur Abscheidung dünner Materialschichten auf einem Substrat. Dieses Verfahren wird unter anderem in Speichergeräten eingesetzt. FC7100 ermöglicht eine präzise und hoch kontrollierte Abscheidung von Materialien auf dem Substrat. Diese zusätzliche Präzisionsschicht stellt sicher, dass der CVD-Prozess erfolgreich ist. Zusammenfassend ist der Mikrofabrikationsreaktor FC 7100 ein leistungsfähiges und zuverlässiges Werkzeug für die Herstellung komplexer Halbleiter- und optoelektronischer Bauelemente. Es kombiniert Elektronenstrahlverdampfer, FIB-Ätz- und CVD-Fähigkeiten für einen Single-Tool-Ansatz, der die hochpräzise Materialabscheidung und -ätzung gewährleistet, die für einen erfolgreichen Herstellungsprozess erforderlich sind.
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