Gebraucht CSD EPITAXY EpiPro 5000 #9068399 zu verkaufen

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Hersteller
CSD EPITAXY
Modell
EpiPro 5000
ID: 9068399
Epitaxy deposition reactors Gases: Dope 1 & Dope 2 SiHCl3 HCL N2 H2 SiH2Cl2 Generator: Piller Other generator option: Huttinger ATM Pressure only Exhaust KF Flanges Currently installed.
CSD EPITAXY EpiPro 5000 ist eine epitaktische Abscheidungsausrüstung zur Herstellung von Halbleiterstrukturen für Optoelektronik, fortschrittliche Materialien und hochleistungsfähige integrierte Schaltungen. Das System ist ein Einzel-Kammer, diskrete epitaktische Abscheidung Reaktor entwickelt, um hochpräzise Kontrolle über alle Parameter im Zusammenhang mit epitaktischen Wachstum bieten. Es verwendet eine elektronenstrahlunterstützte Wachstumstechnik, die thermische und plasmaverbesserte chemische Dampfabscheidung (EBE-CEV) kombiniert, um eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit und Qualität zu erreichen. Das Gerät ist in der Lage, Materialien auf Substraten mit einem Durchmesser von bis zu 200 mm und einer Dicke von bis zu 250 mm abzuscheiden. Die EBE-CEV-Technik von EpiPro 5000 wurde entwickelt, um epitaktische Schichten hoher Reinheit mit hervorragender Kontrolle der Schichtdicke und Dotierungskonzentrationen herzustellen. Der in der Maschine verwendete Elektronenstrahl ist ultrasteif und ermöglicht eine sehr präzise Kontrolle der Schichtdicke und der Dotierungskonzentration, während die hochrangige spektrochemische Analytik eine Fast-Sättigungsniveaukontrolle der Verunreinigungserkennung ermöglicht. Darüber hinaus gewährleistet das beliebige Abtastmuster des Strahls eine gleichmäßige Abscheidung über die maximale Substratgröße, was eine verbesserte Skalierung von Fertigungsprozessen ermöglicht. CSD EPITAXY EpiPro 5000 bietet auch mehrere zusätzliche Schichten der anspruchsvollen Prozesskontrolle, um höchste Gleichmäßigkeit und Qualität zu gewährleisten. Dazu gehören eine fortschrittliche Abscheidekammerüberwachung über ein In-situ-Spektrometer zur Erfassung von Gasen in der Abscheidekammer sowie eine Kameraanordnung zur Überwachung des Wachstums in Echtzeit und zur Untersuchung von Defekten und Verunreinigungen. Das Werkzeug enthält auch mehrere Lüftungssteuerungssysteme, um sicherzustellen, dass die Abscheidekammer auf der optimalen Temperatur und dem optimalen Druck gehalten wird. Wärme ist ein weiterer wichtiger Faktor, wenn es um epitaktische Abscheidung geht und EpiPro 5000 wurde entwickelt, um dies zu beheben, indem Hochleistungspyronometer und Wasserkühlsysteme integriert werden, die das Substrat und die Abscheidekammer auf eine akzeptable Betriebstemperatur halten. Zusätzlich ist die Anlage mit einem Inertgas-Durchflussmodell ausgestattet, um die Gleichmäßigkeit in der gesamten Abscheidekammer zu gewährleisten und Gasturbulenzen zu minimieren. CSD EPITAXY EpiPro 5000 bietet auch eine automatisierte Überwachung und Parameterkontrolle, die es Wissenschaftlern ermöglicht, mit schwierigen Prozessen mit fortschrittlicher Geschwindigkeit zu experimentieren. Die Ausrüstung ist zudem äußerst zuverlässig und bietet bei sachgemäßer Verwendung eine lange Lebensdauer. Insgesamt ist EpiPro 5000 ein hochentwickeltes und zuverlässiges Abscheidungssystem, das entwickelt wurde, um eine hochwertige und gleichmäßige Epitaxieschicht mit ausgezeichneter Kontrolle und Präzision zu erzeugen.
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