Gebraucht LAM RESEARCH 839-019090-632 #293662521 zu verkaufen

LAM RESEARCH 839-019090-632 ist eine Art Plasmaätzreaktor, der in der Halbleiterindustrie zur atomaren Abscheidung verwendet wird. Sie besteht aus einer zylindrischen Kammer mit zwei Elektroden im Inneren, einer unteren Elektrode und einer oberen Elektrode, die durch einen kleinen Spalt getrennt sind. Die Kammer ist mit einem Gasgemisch, typischerweise einschließlich Argon, Sauerstoff und Stickstoff, gefüllt und wird auf einen niedrigen Druck evakuiert. Zwischen den beiden Elektroden wird eine HF-Leistung angelegt, die ein Plasma zwischen den beiden initiiert. Dieses erzeugte Plasma wird die Kammerwände beschießen, ein Ätzen und Abscheiden von Atomen verursachen und letztlich die Schicht und Struktur des Materials innerhalb der Kammer verändern. Das System hat die Fähigkeit, eine Vielzahl von verschiedenen Wafergrößen von 300 mm bis 150 mm zu verarbeiten und bietet eine Vielzahl von Prozessoptionen. Der Reaktor kommt auch mit zwei Lasten, einem Kühler und 150 mm bis 300 mm Fähigkeiten. Es ist mit einem Hochfrequenz-HF-Generator und Netzteilen, fortschrittlicher Diagnose, fortschrittlicher Leistungssteuerung und einer Vielzahl von Sensoren ausgestattet. Die fortschrittliche Diagnostik bietet Werkzeuge, die eine präzise Kontrolle der Plasmaparameter ermöglichen. Der Reaktor ist mit Blick auf Leistung und Zuverlässigkeit konzipiert und kann an verschiedene Benutzeranforderungen angepasst werden. Die Kammer ist aus Edelstahl gefertigt und unter Berücksichtigung höchster Sicherheitsstandards konzipiert. Die Elektroden sind aus Wolfram-Aluminat und elastisch bis Plasmabeschuss aufgebaut. Der Reaktor verfügt auch über eine erweiterte Prozesssteuerung, was bedeutet, dass er in der Lage ist, sich selbst einzustellen, um ein enges Fenster von Prozessparametern zu optimieren und wiederholt zu liefern. 839-019090-632 ist ein vielseitiger und leistungsstarker Reaktor, der sich ideal für F&E und Produktionsätzen eignet. Die fortschrittliche Prozesssteuerung gewährleistet einen wiederholbaren Prozess, eine präzise Steuerung der Plasmaparameter und letztlich hohe Ausbeuten. Es ist zudem mit modernsten Sicherheits- und Qualitätsstandards kompatibel und gewährleistet Zuverlässigkeit und Leistung in einer Vielzahl von Anwendungen.