Gebraucht LAM RESEARCH Altus Max #293625737 zu verkaufen

LAM RESEARCH Altus Max ist eine fortschrittliche und zuverlässige induktiv gekoppelte Plasma (ICP) -Reaktorausrüstung, die eine breite Palette von wissenschaftlichen und industriellen Anwendungen unterstützt. Mit fortschrittlichen Technologien und anpassbaren Optionen kann es für Prozesse verwendet werden, die von Ätzen, Abscheidung, Dünnschichtwachstum und Passivierung über optische Dünnschichtabscheidung und chemische Dampfabscheidung reichen. Altus Max verfügt über eine eChamber™, eine revolutionäre und wesentliche Komponente des ICP-Reaktors. Dieses patentierte Design ermöglicht es Benutzern, aus einer von drei gleichmäßigen Leistungskurven auszuwählen, die eine präzise Steuerung des Plasmaprozesses ermöglichen. Die Kammer verfügt über eine hervorragende elektrische Trennung der Prozesse, auch bei hohen Leistungsstufen, und verfügt über eine bewährte Gasströmungskonstruktion für eine reibungslose und stabile Aufrechterhaltung der gewünschten Plasmaparameter. Mit einer großen Anzahl von Prozessgasen zur Verfügung, kann das Verfahren leicht an die Anforderungen jeder Anwendung angepasst werden. LAM RESEARCH Altus Max umfasst auch ein einzigartiges Gaseinspritzsystem. Diese patentierte Konstruktion ermöglicht die gleichzeitige Steuerung mehrerer Gase in einem einzigen Durchlauf und ermöglicht eine präzise Abstimmung der Plasmaparameter bei gleichzeitiger Optimierung des Durchsatzes. Es ist auch eine Druckregelung vorgesehen, um eine genaue Modulation des Plasmas zu gewährleisten. Altus Max ist mit fortschrittlichen Monitor- und Steuerungsfunktionen ausgestattet. Ein Touchscreen-Display bietet einfachen Zugriff auf alle Prozessparameter, während integrierte Datenlogging und Rezept-Management-Software eine präzise Kontrolle über Prozesseinstellungen und -parameter ermöglichen. Das Gerät umfasst auch Gasanalysator- und Massenspektrometer-Fähigkeiten, die eine präzise Steuerung und Analyse der Prozessumgebung ermöglichen. LAM RESEARCH Altus Max ist eine fortschrittliche, flexible und zuverlässige ICP-Reaktormaschine. Mit seinen patentierten eChamber™ und Gaseinspritzsystemen bietet es Wissenschaftlern und Ingenieuren, die eine präzise und wiederholbare Prozesssteuerung suchen, eine breite Palette von Optionen. Mit seinen integrierten Monitor- und Steuerungsfunktionen und mehreren Gasoptionen kann es selbst schwierigste Anwendungen mit Leichtigkeit bewältigen.