Gebraucht LAM RESEARCH Altus #293818161 zu verkaufen

Hersteller
LAM RESEARCH
Modell
Altus
ID: 293818161
Weinlese: 2019
Physical Vapor Deposition (PVD) system 2019 vintage.
LAM RESEARCH Altus ist ein hocheffizienter Reaktor, der auf die Gleichmäßigkeit der Qualität bei der Abscheidung dünner Filme ausgelegt ist. Es verfügt über ein auto-mechanisches Plattformdesign, das die Verteilung von Ätzmitteln und Gasen optimiert und wiederholbare Ergebnisse erzielt. Altus ist modular aufgebaut, so dass je nach Produktionsbedarf der Anwendung zusätzliche Module hinzugefügt werden können. Es verfügt auch über einen integrierten Roboterarm zum präzisen und genauen Be- und Entladen von Substraten. LAM RESEARCH Altus-Reaktor ist in der Lage, eine breite Palette von Verfahren, einschließlich thermischer und Plasmaprozesse wie chemische Dampfabscheidung (CVD), Plasma-erhöhte CVD (PECVD), physikalische Dampfabscheidung (PVPD). Sein einzigartiges Design und seine Eigenschaften ermöglichen es ihm, hohe Präzision und Gleichmäßigkeit in der Substratätzung zu bieten. Der Altus-Reaktor verfügt über eine breite Palette von Parametern, die an unterschiedliche Prozessanforderungen angepasst werden können. Es verwendet eine ausgeklügelte Software, um die Betriebsparameter für jeden Prozess genau zu steuern. Es enthält auch eine bordeigene Sicherheitsausrüstung, um den Benutzer vor potenziellen Gefahren zu schützen. Der Reaktor besteht aus einem Anodenabschnitt und einem Kathodenabschnitt. Der Anodenabschnitt besteht aus einer elektrisch leitfähigen Platte, die chemische Vorläufer zur Abscheidung enthält. Der Kathodenabschnitt enthält Elektroden, die eine Plasmaquelle erzeugen, die den Anodenabschnitt bombardiert, um den Abscheidungsprozess zu initiieren. Der LAM RESEARCH Altus Reaktor umfasst auch ein chemisches Abgabesystem und eine schnelle Reaktionseinheit. Die chemische Fördermaschine liefert die richtigen reaktiven Gase für den Prozess, während das schnelle Reaktionswerkzeug die Prozessgeschwindigkeit erhöht. Zusammen ermöglichen diese Systeme einen höheren Durchsatz und kürzere Zykluszeiten. Schließlich ist der Altus-Reaktor auch mit In-situ-Überwachungsfunktionen ausgestattet, mit denen er Änderungen der Chemie oder der Reaktionsparameter überwachen und entsprechend kompensieren kann. Diese Funktion trägt dazu bei, dass der Prozess auf die engsten Toleranzen gehalten wird, wodurch eine gleichmäßige und wiederholbare Qualität gewährleistet ist.
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