Gebraucht LAM RESEARCH Altus #9163188 zu verkaufen

LAM RESEARCH Altus
Hersteller
LAM RESEARCH
Modell
Altus
ID: 9163188
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2012
PVD System, 12" 2012 vintage.
LAM RESEARCH Altus ist eine fortschrittliche, kompakte Reaktorausrüstung, die für eine Vielzahl moderner Halbleiterverarbeitungsanforderungen entwickelt wurde. Insbesondere eignet sich Altus bestens für hochvolumige, epitaktische und niederdruckchemische Aufdampfanwendungen (CVD). Der Altus-Reaktor von LAM RESEARCH ist für den massiven Durchsatz mit einer breiten Palette präziser Temperaturregelung und präziser Reaktionszeit ausgelegt. Sein Design basiert auf einem geschlossenen hochreinen Quarzrohr mit einem Lumpenwiderstandsheizelement, einem voll programmierbaren und konfigurierbaren Pulverzuführer und einer präzisen Reaktantensteuerung über integrierte Massenstromregler und Ventile. Mit präziser Temperaturregelung, hochreinem Vakuum und präziser Reaktantensteuerung ist das Altus-Reaktorsystem in der Lage, hochgenaue und wiederholbare Ergebnisse zu liefern. LAM RESEARCH Altus Reaktoreinheit erreicht hohe Präzision in einem breiten Spektrum von Prozessbedingungen durch seine fortschrittliche thermische Konstruktion, die End-to-End-variable Heizkapazabiliten, mehrere Reinheitsreine Quarzkühlstellen und mehrere schützende metallische Schichten. Die fortschrittliche Temperaturregelung ermöglicht schnelle Umschaltzeiten zwischen verschiedenen Rezepturen und Prozessanforderungen und bietet gleichzeitig eine ausgezeichnete Temperaturgleichförmigkeit in der gesamten Maschine. Das Tool wird auch mit automatischer Druckkontrolle geliefert, um genaue Antworten vom Asset zu gewährleisten. Dies in Kombination mit der voll programmierbaren Reaktantensteuerung ermöglicht wiederholbare Ergebnisse mit minimalen Variationen. Altus Reaktormodell ist extrem vielseitig und kann mit einer Vielzahl anderer Komponenten für eine umfassende CVD-Ausrüstung integriert werden. Das System ist kompatibel mit mehreren Gasen, Chemikalien und Materialien und kann für die Handhabung von vertikalen oder parallelen Prozessabläufen konfiguriert werden. Der Reaktor bietet auch integrierte messtechnische Werkzeuge zur Prozessüberwachung, Partikelgrößen- und Oberflächencharakterisierung sowie anpassbare Steuerungen zur Automatisierung und Optimierung der Bearbeitungsvorgänge. Um einen sicheren und zuverlässigen Betrieb zu gewährleisten, wird LAM RESEARCH Altus Reaktoreinheit mit hochwertigem Edelstahl und exotischen Metallen gebaut, die maximale strukturelle Integrität gewährleisten. Die Maschine wird auch durch eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen wie Inertgasfüllung und -spülung, Übertemperaturschutz und Hochspannungsschutz unterstützt. Das Tool ist auch ATEX genehmigt und entspricht den Vorschriften der IEC6116 und anderer internationaler Richtlinien. Insgesamt ist Altus Reaktor Asset eine fortschrittliche Hochleistungsplattform für CVD und epitaktische Abscheidung, die beispiellose Präzision und Wiederholbarkeit in einer Reihe von Prozessbedingungen bietet. Mit ihm können Anwender eine exzellente Kontrolle über ihre Verarbeitungsaufgaben erzielen und eine einheitliche Konsistenz mit jeder Charge von Produkten gewährleisten.
Es liegen noch keine Bewertungen vor