Gebraucht LAM RESEARCH Inova NExT #9350861 zu verkaufen
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ID: 9350861
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2005
PVD System, 12"
(3) Chambers
2005 vintage.
LAM RESEARCH Inova NExT ist ein energiesparender, fortschrittlicher Plasmareaktor, der die Herstellung fortschrittlicher elektronischer Geräte ermöglicht. Inova NExT ist für die Herstellung von Chips der nächsten Generation wie dreidimensionale (3D) Transistoren und Flash-Speicher konzipiert. Es verfügt über eine verbesserte Prozesssteuerung von hochauflösenden, niedrigeren Temperaturen und ertragreicheren Fertigungsplattformen. LAM RESEARCH Inova NExT ist mit einem Hochfrequenzgenerator (RF) und einer Sauerstoff (O2) -Plasmaquelle ausgestattet, die eine parallele zweiseitige Waferbearbeitung unterstützt. Der Mehrfachfrequenzgenerator ermöglicht präzise Plasmaabscheidungs- und Ätzprozesse. Die hocheffiziente Gaszufuhranlage von Inova NExT behält niedrige Restgase auf der Waferoberfläche bei, eliminiert Partikel und verringert die Belastung und ermöglicht einheitliche und wiederholbare Folienabscheidungsprofile. LAM RESEARCH Inova NExT-Reaktor verwendet eine Vielzahl von hochauflösenden optischen Sensoren und Sonden für die Echtzeit-Prozessüberwachung. Seine elektrischen Sonden erfassen und zeigen die Prozesstemperatur, den Druck und die Zerstäubungsrate an. Seine erweiterten Prozesssteuerungsfunktionen ermöglichen eine präzise Prozessschrittoptimierung und allgemeine Ertragsverbesserungen. Inova NExT ist mit einem hochzuverlässigen, wartungsarmen Vakuumpumpensystem zur Ansammlung von Gasen aus der Kammer ausgelegt. Die stromlinienförmige Gasfördereinheit behält eine ausgezeichnete Kontrolle über Gasströme und -mengen und hilft, Kontaminationen zu reduzieren. Seine abgeschirmte HF-Maschine sorgt für eine homogene Abscheidung und sorgt für keine Schäden an der Steuerung von Hardware durch EMI. LAM RESEARCH Die Selbstreinigung von Inova NExT hilft, die Prozesskammer sauber und frei von Verunreinigungen zu halten. Seine Hochleistungskammerkonstruktion besteht aus Edelstahl der Serie 300 und verfügt über überlegene Kammerwärmekapazität und Gleichmäßigkeit. Inova NExT Kammergröße kann an jeden Herstellungsprozess angepasst werden. LAM RESEARCH Inova NExT kann mit variabler Winkelwaferdrehung, Echtzeit-Winkelansicht mit Wafer-Füllstandssensoren für Temperaturen, Druck und Gasströmung sowie mehreren aktiven Temperaturzonen innerhalb der Kammer für eine bessere Temperaturregelung ausgestattet werden. Es ist für einen langfristig zuverlässigen Betrieb gebaut und kann wiederholbare, ertragsstarke Fertigungsprozesse unterstützen.
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