Gebraucht LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus extremefill #293625748 zu verkaufen

LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus extremefill reactor ist ein fortschrittliches Plasmaätzverfahren zur Erstellung von Source/Drain Strukturen, die bei der Herstellung von ultrageschrumpften Transistoren und MOSFETs verwendet werden. Der Reaktor verwendet eine Kombination von Gasen wie CF4, CHF3 und Helium und verwendet Argon als Vorreiniger, um Metalle zu ätzen. Dieses Gasgemisch und das Argon-Vorreinigungsmittel bildet eine isotrope Ätzumgebung, die eine dichte Steuerung des Rippenprofils über einen weiten Temperaturbereich ermöglicht. Der Reaktor verwendet hochdichtes Plasma, um eine überlegene Ätzleistung und einen erhöhten Durchsatz zu bieten. Dies wird dadurch erreicht, dass eine hohe Plasmadichte mit überlegener Ätzgleichmäßigkeit bereitgestellt wird. NOVELLUS Altus Extremfill Reaktor nutzt auch eine einzigartige Gas-Lieferung Ausrüstung, um eine einheitliche Gasverteilung in der gesamten Ätzkammer zu gewährleisten. Diese Funktion ermöglicht in Kombination mit der Software NOVELLUS Advanced Process Control eine präzise Steuerung des Ätzprozesses. LAM RESEARCH Altus extremefill reactor verfügt auch über Miniature Source/Drain Technology (MDT). Diese Technologie ermöglicht die Erstellung von Source/Drain-Strukturen mit Tiefen von ½ bis 8 Mikrometern und bietet ein stärker kontrolliertes Rippenprofil mit überlegener Tiefenregelung und verbesserter Energieeffizienz. Diese Technologie ermöglicht auch eine erhöhte Geräteeinheitlichkeit, indem Hot-Spots in den Source/Drain-Strukturen eliminiert werden. Altus extremefill reactor bietet auch modernste Prozesssteuerung durch sein eingebettetes Digital Intelligent Supervision and Process Control (DIPC) System. Dieses Gerät bietet fortschrittliche Überwachung, Diagnose und Abstimmung, um eine optimale Leistung zu gewährleisten. Die Maschine hilft auch, Produktzykluszeiten zu reduzieren und verbessert Ertrags- und Prozesswiederholbarkeit. Abschließend ist der LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus extremefill Reaktor ein fortschrittliches Plasmaätzverfahren zur Herstellung von ultrageschrumpften Transistoren und MOSFETs. Es verwendet ein Plasma mit hoher Dichte, um eine überlegene Ätzleistung und einen erhöhten Durchsatz zu bieten und bietet gleichzeitig modernste Prozesssteuerungsfunktionen wie Miniature Source/Drain Technology und Digital Intelligent Supervision und Process Control.