Gebraucht LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #293754401 zu verkaufen

LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus ist eine PVD-Ausrüstung (Physical Vapor Deposition) der nächsten Generation, die für die fortgeschrittene Abscheidung von dünnen Schichten auf Substraten entwickelt wurde, die in Hochleistungs-Halbleiteranwendungen verwendet werden. NOVELLUS Altus verfügt über eine fortschrittliche Vakuumkammerarchitektur, die eine überlegene Leistung bei hohem Kammerfluss bietet und ideal für fortgeschrittene Folienschichten ist und schnellere Abscheideraten und einen verbesserten Durchsatz ermöglicht. Das System kombiniert hohen Durchsatz und niedrige Betriebskosten mit geringem Wartungsaufwand. LAM RESEARCH Altus setzt NOVELLUS patentierte „All-Around“ -Dualreaktortechnologie ein, die die Abscheidung aus zwei Quellen gleichzeitig ermöglicht. Die Kombination von zwei Quellen ermöglicht eine schnellere Abscheidegeschwindigkeit im Vergleich zu einer einzigen Quelleneinheit und erhöht gleichzeitig die Gleichmäßigkeit. Der Doppelreaktor ermöglicht es dem Benutzer auch, zwischen der Abscheidung auf der oberen Oberfläche und der unteren Oberfläche des Substrats zu wechseln, ohne den Produktbesitzer wechseln zu müssen oder auf eine erneute Druckbeaufschlagung zu warten. Altus nutzt die fortschrittliche Filmsteuerungsmaschine von LAM, die eine integrierte Rückkopplungssteuerung von Temperatur, Druck und Vakuum bietet und es dem Benutzer ermöglicht, eine Vielzahl von Variablen beim Abscheiden von Dünnschichtmaterialien genau zu steuern. Dieses Kontrollwerkzeug bietet auch eine hervorragende Kontrolle über die Abscheidungsgleichmäßigkeit, die Ausschussrate und die Rauheit von Wurzelmittelwert (RMS). LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus Substrattransfer liefert einen hohen Durchsatz bei gleichzeitiger Minimierung von Partikelerzeugung und Kontamination. Es bietet auch wiederholbare, automatisierte, vakuumkompatible Substratflips, die schnelle Produktänderungen ermöglichen. NOVELLUS Altus verfügt über mehrere fortschrittliche Sicherheitssysteme, darunter ein vakuumfreundliches, hochleistungsfähiges Brandschutzmodell und eine fortschrittliche Überwachung und Steuerung des Schaltschranks. Diese Schranksteuerung ermöglicht es dem Benutzer auch, den Zustand der Geräte bei Ausfällen oder anderen Systemstörungen einfach zu überwachen und wiederherzustellen. Abschließend ist LAM RESEARCH Altus auf höchste Prozesssicherheit und überlegene Leistung in anwendungskritischen PVD-Anwendungen ausgelegt, wodurch erhebliche Kosteneinsparungen erzielt werden. Altus ist eine ideale Wahl für Hochleistungs-PVD-Abscheidung sowohl für Prototyp- als auch für Produktionsanwendungen.