Gebraucht LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9255626 zu verkaufen

LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus ist eine Art PECVD-Reaktor (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). Es ist ein Werkzeug zum Aufbringen dünner Filme auf ein Substrat in der Halbleiterindustrie. Es ist ideal für Anwendungen, die schnelle Prozesszeiten bei niedriger Temperatur erfordern. NOVELLUS Altus Geräte verwenden ein transversales HF-gesteuertes Plasma, um einen dünnen Film aus dem gewünschten Material auf dem Substrat abzuscheiden. Das System arbeitet, indem es ein reaktives Gas in seine Verarbeitungskammer einführt. Nach Durchlaufen einer Reihe von Abgasfiltern wird das Gas einem Elektronenbeschuss unterworfen, wodurch es in reaktive Atome und Moleküle zerfällt. Die Zellwände der Kammer sind mit hochleitenden Elektroden ausgekleidet, die ein aktives HF-Feld erzeugen. Dies ermöglicht schonende Plasmamikroentladungen entlang der Länge und Breite der Kammer, wodurch hochenergetische reaktive Spezies entstehen, die mit dem eintreffenden Abscheidungsgas reagieren. Die von LAM RESEARCH Altus produzierte Abscheidefolie ist gleichmäßig und wasserfrei, mit geringer Beanspruchung und ausgezeichneter Haftung. Es ist in der Lage, dielektrische, leitfähige, metallische oder antimikrobielle dünne Filme auf einer Vielzahl von Substraten abzuscheiden. Die Maschine verfügt über eingebaute Temperatur- und Drucküberwachung, mit der Fähigkeit, die Dicke des Abscheidungsfilms in-situ zu überwachen. Dies gewährleistet Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit in der Verarbeitung. Das Werkzeug verfügt auch über eine schnelle Hochlaufzeit, niedrige Temperatur Plasmaerzeugung und reduzierte Bearbeitungszeiten. Die Kammer kann Temperaturen bis zu 450 ° C und Reaktionszeiten bis zu einigen Sekunden erreichen. Es ist mit Werkzeug- und Rezeptmanagement-Software für Fernbedienung und Überwachung sowie Konzentrationsprofilierungsfähigkeit für Optimierung und Automatisierung ausgestattet. Altus Reaktor Asset wird weit verbreitet für eine Vielzahl von Anwendungen verwendet, die von fortschrittlichen Verpackungen über MEMS-Geräte bis hin zur erweiterten Schaltungsintegration reichen. Damit ist es ein hervorragendes Substrat für die Halbleiterindustrie. Dank seiner Niedertemperaturabscheidbarkeit eignet es sich ideal zur Strukturierung und Planarisierung von Prozessen wie der Verarbeitung von MEMS-Strukturen, bei denen höhere Temperaturen thermische Schäden verursachen können. LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus Reaktor ist auch leicht für verschiedene Abscheidungsanforderungen modifiziert. Seine Anpassungsfunktionen machen es für eine breite Palette von Anwendungen geeignet. Von der Abscheidung von Isolatoren für Leistungsverstärker bis zur Abscheidung von Schutzschichten für mikrofluidische Systeme ist der NOVELLUS Altus Reaktor ein vielseitiges Werkzeug zur Halbleiterabscheidung.