Gebraucht LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9261404 zu verkaufen

ID: 9261404
System, 12" 2004 vintage.
LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus ist ein Reaktor zur Materialabscheidung auf Halbleitersubstraten in der Mikroelektronikindustrie. Es bietet effiziente Verfahren zur Abscheidung von Schichten aus Materialien wie Gateoxid, Photoresist, Polyimiden und stickstoffreichem Siliziumnitrid auf Halbleitersubstraten. NOVELLUS Altus Reaktor nutzt eine Vielzahl von Technologien, um diese Schichten abzuscheiden, wie chemische Dampfabscheidung (CVD), Niederdruck-CVD (LPCVD), physikalische Dampfabscheidung (PVD) und Elektronenzyklotronresonanz (ECR onance). Bei dem CVD-Verfahren handelt es sich um Gasvorläufer, die bei erhöhten Temperaturen zu gleichmäßigen dünnen Schichten auf der Oberfläche eines Substrats reagieren. Das LPCVD-Verfahren ist eine niedrige Temperaturschwankung von CVD und wird häufig für dicke oder hi-k Gate-Oxide verwendet. Das PVD-Verfahren beinhaltet die energetische Abscheidung von Material auf den Wafer aus einem Quellenmaterial in Form eines Sputter-Targets und erfolgt typischerweise bei niedrigen Drücken. Schließlich beinhaltet ECR die Verwendung einer Mikrowellenquelle zur Ionisierung der Prozessgase, wodurch Plasma entsteht, das dann zur Abscheidung der Schicht auf dem Substrat verwendet wird. LAM RESEARCH Altus Reaktor ist mit einer Benutzeroberfläche gebaut, die nahtlosen Zugriff auf seine Funktionen und Einstellungen bietet, so dass es einfach ist, die Ablagerungsrezepte und Prozessparameter für jede Schicht anzupassen. Der Reaktor verfügt auch über eine Mehrzonenfähigkeit, so dass bis zu acht verschiedene Abscheidungsprozesse gleichzeitig laufen können, mit bis zu vier verschiedenen Substraten pro Zone. Darüber hinaus ist die Vakuumquelle so konzipiert, dass sie den Basisdruck um die Prozesskammer herum aufrechterhält und eine schnelle Stillstandszeit für eine verbesserte Produktivität liefert. Altus-Reaktor ist eine ausgezeichnete Wahl für die Materialabscheidung auf Halbleitersubstraten, da es dem Benutzer eine Fülle von Anpassungs- und Automatisierungsoptionen bietet, um zuverlässige und einheitliche Ergebnisse zu erzielen. Seine Mehrzonenfähigkeit und schnelle Pumpenausfallzeit erhöhen die Prozesseffizienz weiter, und seine benutzerfreundliche Schnittstelle macht es einfach, den Reaktor für optimale Ergebnisse zu konfigurieren.
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