Gebraucht LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9261411 zu verkaufen

LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus ist eine Hochleistungs-Plasma-verbesserte chemische Dampfabscheidung (PECVD) Reaktorausrüstung für die Abscheidung von Niedertemperaturoxid- und Hochtemperaturnitridfilmen. Es ermöglicht die Abscheidung von Schichten im Mikron- und Sub-Micron-Maßstab verschiedener Dicken und Dichten mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit bei großen Wafergrößen. Das System basiert auf dem Standard LAMNOVELLUS PECVD-Verfahren, einem hochfrequenten, hochbelasteten Pulsprozess, der für einen hohen Durchsatz mit Millisekunden-Abscheidezeiten für Oxidfilme und Submilchsekunden-Zyklus für Nitridfilme konfiguriert ist. Der NOVELLUS Altus Reaktor verbessert diesen Prozess mit seiner proprietären plasmaverbesserten chemischen Dampfabscheidungstechnologie. Dieses Gerät verwendet ein einzigartiges Multi-Puls-System, um eine wiederholbare plasmaverbesserte Reaktion von aus der Kammer zugeführten Reaktanden zu erzeugen, was zu Filmen mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und hervorragender Konformität führt. LAM RESEARCH Altus Reaktor verfügt auch über proprietäre erweiterte Plasma-Isolationsfunktionen, um ein stabiles Prozessfenster über eine breite Palette von Substraten aufrechtzuerhalten. Diese neuen Isolationssysteme helfen, auslaufende Reaktionen zu reduzieren und Temperaturschwankungen über die Wafer zu beseitigen, was zu einer besseren Schichtdickengleichmäßigkeit und weniger Prozessexkursionen führt. Der modulare Aufbau der Maschine ermöglicht es Benutzern, schnell zwischen Oxid- und Nitrid-Modi zu wechseln und Gasströme und Impulsparameter anzupassen, um die Filmeigenschaften zu ändern. Das vielseitig einsetzbare Altus-Tool beinhaltet auch eine Reihe von Optionen für eine fortschrittliche Abscheidungsüberwachung, einschließlich berührungsloser Reflexion und direkter Laserreflexion. LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus verfügt über ein computergesteuertes Umweltmanagement, um die Qualität und Konsistenz des Prozesses zu gewährleisten. Niederfrequenz-Rauschen wird durch die fortschrittlichen Isolationssysteme minimiert, und die Bedienerschnittstelle macht den Modellbetrieb einfach und effizient. Die Geräte können für eine Vielzahl von Anwendungen verwendet werden, von MEMS bis zu Flachbildschirmen und eignen sich sowohl für Werkzeug- als auch für Forschungsanwendungen.