Gebraucht LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9261430 zu verkaufen

LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus ist ein physikalischer PVD-Atom-Quellenreaktor. Das Gerät ist so konzipiert, dass es eine präzise Kontrolle der Filmabscheidungsrate, Temperatur, Druck und anderer Prozessbedingungen ermöglicht, wodurch eine gleichmäßige und präzise Beschichtung des Substratmaterials gewährleistet ist. Es ist mit einer Niederleistungs-Ionenquelle mit hoher Dichte ausgestattet, die eine präzise Abscheidung von Dünnschichtschichten auf Substraten ermöglicht. Das System umfasst eine hochauflösende Ionenquelle, eine Plasmabearbeitungskammer, mit der Plasma und Substrat zusammengeführt werden, sowie elektrische Netzteile, die die Verarbeitungsbedingungen steuern. Die hochauflösende Quelle ist in der Lage, eine hohe Stromdichte zu erzeugen, die eine kontrollierte und gleichmäßige Abscheidung von dünnen Schichten ermöglicht. Die Plasmabearbeitungskammer, die das Herzstück der Einheit ist, ermöglicht die Erzeugung eines Plasmas mit niedriger Leistung und hoher Dichte. Dieses Plasma ist für die präzise Abscheidung von dünnen Schichten bei niedrigen Temperaturen notwendig, was zu geringem Materialverbrauch und besseren elektrischen, optischen und mechanischen Eigenschaften führt. Die Maschine umfasst auch mehrere technologische Komponenten wie einen Substrathaltering, eine Heizung, einen Kühlabschnitt und eine ionengetriebene Vorformungseinheit. Der Substrathaltering erleichtert die Positionierung und Vorbehandlung des Substratmaterials vor Beginn des PVD-Prozesses. Der beheizte Abschnitt des Werkzeugs bewegt sich schnell und beschleunigt den Prozess des Abscheidens der Folie, während der Kühlabschnitt hilft, die gleichmäßige Temperatur während der gesamten PVD-Abscheidung zu halten. Darüber hinaus hilft die Vorformungseinheit, die sich zwischen dem Substrat-Haltering und der PVD-Kammer befindet, dabei, genaue Schichten mit gewünschter Dicke und Zusammensetzung zu erzeugen. Die Anlage kann viele verschiedene Substratmaterialien wie Aluminium, Kupfer, Silizium und Glas verarbeiten. Darüber hinaus ist das Modell in der Lage, viele verschiedene Arten von Materialien wie Chrom, Aluminium, Titan und Wolfram abzuscheiden. NOVELLUS Altus PVD-Ausrüstung ist entscheidend für die Schaffung präziser, einheitlicher und geeigneter Dünnschichtschichten für kritische Komponenten von Geräten, die in der heutigen fortschrittlichen Elektronik verwendet werden. Die genaue Abscheidung von Materialien auf den Substraten garantiert qualitativ hochwertige Teile und Produkte und gewährleistet zuverlässige und effektive Leistung. Mit einer Fülle an technologischen Komponenten eignet sich das System hervorragend für präzise Folien bei unterschiedlichsten Temperaturen und Prozessbedingungen.