Gebraucht LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9271265 zu verkaufen

LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus ist ein CVD-Reaktor, der im Halbleiterherstellungsprozess eingesetzt wird. Es ist entworfen, um hochpräzise, Niedertemperaturprozesse und Ultraniederdruckbetrieb bereitzustellen. NOVELLUS Altus verwendet eine Turbofan-Pumpe, um eine überlegene Abscheidungsgleichmäßigkeit und Wiederholung von Parametern auf Kosten eines höheren Stromverbrauchs zu erreichen. Um Dünnschichtanwendungen zu erfüllen, die höhere Abscheidungsraten erfordern, umfasst LAM RESEARCH Altus zwei thermische CVD-Quellen mit einem Quarzboot zur zuverlässigen Abscheidung konformer Dünnschichten. Diese Kombination von CVD-Quellen erzeugt einen Temperaturbereich von 350 ° C bis 575 ° C sowie eine Präzisionstemperaturregelung von 0,1 ° C. Darüber hinaus verfügt Altus über NOVELLUS patentierte Dünnschicht-Quelldüsen, die darauf ausgelegt sind, die Gleichmäßigkeit der Abscheidung auf breiter Fläche zu erzeugen. Für optimale Dünnschichtergebnisse können Prozessdrücke von 10 Torr bis 1 Torr eingestellt werden. LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus ist für den Einsatz auf einer Vielzahl von Substraten konzipiert und bietet die Möglichkeit, Materialien auf großflächigen Substraten abzuscheiden. Die Filmabscheidung kann durch variable Abscheideregulierung und Einbeziehung einer einstellbaren Vorspannung zwischen der Hauptquelle und dem Substrat feinjustiert werden. Sein Design umfasst ein hohlraumfreies Spannungsimplantationsfenster und ist in einem Quarzrohr zur effizienten Vakuumregelung eingeschlossen. Um eine gleichmäßige Wiederholbarkeit und Gleichmäßigkeit des bearbeiteten Teils zu gewährleisten, verfügt NOVELLUS Altus über lineare Motoraktuatoren, die eine präzise Bewegung von Kammerzubehör in vertikaler und horizontaler Richtung mit einer Auflösung von 0,5 µm ermöglichen. Darüber hinaus umfasst LAM RESEARCH Altus LabVIEW Graphical Development Environment und seine benutzerdefinierten Skriptsprachen, die eine automatisierte, genaue und wiederholbare Prozesssteuerung ermöglichen. Altus ist ein zuverlässiger und effizienter CVD-Abscheidungsreaktor, der Dünnschichtschichten optimal auf eine Vielzahl von Substraten verarbeiten kann. Mit seiner hochpräzisen thermischen Steuerung, dem Ultra-Niederdruckbetrieb und den einstellbaren Prozessparametern bietet LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus Herstellern die nötige Präzision und Leistung, um qualitativ hochwertige Produkte herzustellen.