Gebraucht LAM RESEARCH / NOVELLUS Concept 2 Sequel #9251473 zu verkaufen

LAM RESEARCH / NOVELLUS Fortsetzung des Konzepts 2 ist eine Hochleistungs-, Ausrüstung des Elektronbalkensteindruckverfahrens (EBL), die verwendet wird, um in der Präzisionsherstellung verwendete Nanoskalamuster zu schaffen. Das System hat die Fähigkeit, extrem genaue Muster zu erstellen, die für eine Vielzahl von Prozessen geeignet sind, einschließlich der Herstellung von Halbleiterbauelementen, der Produktion von Computerspeichern und der Herstellung von Displays. NOVELLUS Concept 2 Sequel basiert auf dem Konzept der Elektronenstrahl-Lithographie (EBL), einem Verfahren, bei dem ein Elektronenstrahl zur präzisen Strukturierung auf ein Substrat verwendet wird. Die Lithographie erfolgt durch Aufbringen einer Mustermaske auf das Substrat und präzises Bewegen des Elektronenstrahls an den gewünschten Stellen des Musters. In LAM RESEARCH Concept 2 Sequel wird der Elektronenstrahl digital gesteuert, indem digitale Signalverarbeitung auf die Bewegung des Elektronenstrahls angewendet wird, um den Strahl auf der Probe genau zu positionieren. Diese enge Kontrolle der Lage des Strahls, kombiniert mit der Präzision der synchronisierten optischen Einheit, ermöglicht Concept 2 Sequel nanoskalige Auflösung zu erreichen. LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 2 Sequel enthält auch mehrere Funktionen, um den Durchsatz und die Produktion zu verbessern. Merkmale wie Elektronenquelle und Heizelemente, Strahlstrom- und Energieregulierung sowie Verriegelungs- und Sicherheitssysteme, die Unfälle durch übermäßige Belichtung verhindern, erhöhen erfolgreich die Geschwindigkeit, mit der die gewünschten Muster erzeugt werden können. NOVELLUS Concept 2 Sequel ist auch in der Lage, verschiedene Belichtungszeiten und Musterdichtesteuerung, um die Flexibilität des Geräts zu ermöglichen, verschiedene Arten von Anwendungen zu adressieren. Ein weiteres Hauptmerkmal der Maschine ist die redundante EBL-Fähigkeit, die ein schnelles Umschalten zwischen zwei verschiedenen Strahlköpfen ermöglicht, um die Produktivität des Werkzeugs zu verdoppeln. Darüber hinaus ist die Anlage für eine Reihe von Reinraumeinrichtungen konzipiert und kann leicht in andere Produktionssysteme integriert werden, um die Effizienz zu maximieren. Insgesamt ist LAM RESEARCH Concept 2 Sequel ein äußerst zuverlässiges und vielseitiges EBL-Modell, das nanoskalige Muster präzise und präzise herstellen kann. Es ist ein wesentliches Werkzeug für jede Anlage, die eine leistungsfähige, hochpräzise Technologie für die Herstellung von Halbleiterbauelementen und andere elektronische Produktion erfordert.