Gebraucht LAM RESEARCH / NOVELLUS Concept 2 Sequel #9251475 zu verkaufen

LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 2 Sequel ist ein Reaktor zur chemischen Dampfabscheidung (CVD) für die Halbleiterherstellung. Es besteht aus zwei Hauptkomponenten: der Prozesskammer und dem Fernwartungsmodul (RMM). Die Prozesskammer ist die Hauptverarbeitungseinheit, die die Abscheidung des gewünschten Materials auf ein Substrat optimieren soll. Der RMM ist der Teil der für die Wartung verantwortlichen Ausrüstung, einschließlich Reinigung und Kalibrierung der Prozesskammer. Die Prozesskammer weist einen Einzelwafer, einen Quarzduschkopf und eine Gasverteilerplatte auf. Der Quarzduschkopf bietet eine gleichmäßige Gasverteilung und ermöglicht eine gleichmäßige Materialabscheidung auf dem Substrat. Die Gasverteilungsplatte ermöglicht eine genaue Zuführung der gewünschten Gase zur Quellenseite der Prozesskammer. Dadurch kann die Konzentration des Quellgases und die Homogenität der Reaktionsatmosphäre kontrolliert werden. NOVELLUS Concept 2 Sequel verfügt auch über zwei verschiedene Einheitlichkeitskontrollsysteme. Das erste System ist die Prozesstemperaturgleichförmigkeitseinheit (PTUS), der verwendet wird, um die Temperatur des Prozessraums während des CVD-Wachstums zu kontrollieren und anzupassen. Die zweite Maschine ist das Gasuniformitätswerkzeug (GUS), das zur Steuerung der Abgabe des Quellgases und zur Erzielung einer präzisen Gashomogenität dient. Das RMM von LAM RESEARCH Concept 2 Sequel umfasst eine Reihe automatisierter Wartungsfunktionen wie Isolationsventilüberwachung, Druckregelungsmanagement und Pumpendrehzahlregelung. Diese Wartungsfunktionen ermöglichen eine verbesserte Prozesssteuerung und Zuverlässigkeit. Der RMM ist auch mit einer integrierten Turbomolekularpumpe ausgestattet, die zur Aufrechterhaltung des niedrigen Prozesskammerdrucks verwendet wird. Concept 2 Sequel kommt in zwei verschiedenen Größen, dem G2 und dem G3. Beide Reaktoren sind darauf ausgelegt, die für die Halbleiterindustrie notwendigen hochwertigen Materialien herzustellen. Darüber hinaus verfügen sie über fortschrittliche Automatisierungs- und integrierte Gasversorgungssysteme, die eine präzise, wiederholbare Verarbeitung ermöglichen. LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 2 Sequel kann für eine Vielzahl von CVD-Anwendungen wie Epitaxie, Abscheidung von Metallen, Oxiden und Nitriden verwendet werden.