Gebraucht LAM RESEARCH / NOVELLUS Concept 3 Altus Max #293618240 zu verkaufen
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LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus Vector Reactor (AVR) ist ein fortschrittliches Werkzeug zur Abscheidung von dünnen Schichten und zur Ätzung von Nicht-Sok-Substraten. Es ist ein Hochleistungsreaktor mit hoher Kapazität, der eine präzise, schnelle und stark wiederholbare Verarbeitung ermöglicht. Es ist in der Lage, Substrate mit einer Auflösung von einem Mikron zu ätzen, was erhöhte Dichten und kleinere Merkmalsgrößen ermöglicht. Der AVR nutzt einen automatisierten, kontinuierlichen Vakuumprozess, der auf physikalischer Dampfabscheidung (PVD), chemischer Dampfabscheidung (CVD), elektronenstrahlinduziertem Ätzen (EBID) und elektrochemischer Beschichtung (ECP) basiert. Diese einzigartige Kombination von Techniken bietet eine verbesserte Einheitlichkeit und Kontrolle in Materialabscheidungs- und Ätzprozessen. Die Kombination von PVD- und CVD-Verfahren hilft bei der Reduzierung unerwünschter oxidierter Verbindungen und ermöglicht die Abscheidung komplexer Mehrschichtstrukturen mit hoher Gleichmäßigkeit und Genauigkeit. Das ECP-Verfahren ermöglicht die elektrochemische Beschichtung von Materialien mit hoher Auflösung und Geschwindigkeit. Dieses Verfahren wird häufig für Funktionen auf integrierter Schaltungsebene oder auf MEMs-Ebene verwendet. Schließlich wird das EBID-Verfahren zum Ätzen von Materialien mit überlegener morphologischer Kontrolle und Gleichmäßigkeit verwendet und ermöglicht eine hohe Zuverlässigkeit und Präzision von geätzten Merkmalen. Der AVR verfügt über eine universelle Plattform für Wafer-Handling und Prozessbereitstellung und ist damit ein ideales Werkzeug für mehrere Anwendungen. Es nutzt fortschrittliche Vakuumtechnologien und Hilfsprozesse wie inerte und reaktive Gasspülung, um eine saubere Prozessumgebung und eine geringere Kontamination zu gewährleisten. Das Einzel-Wafer-Kassettenhandhabungssystem ermöglicht die präzise Platzierung mehrerer „goldener“ Stücke, die zur Echtzeit-Prozesssteuerung verwendet werden. Darüber hinaus verfügt der AVR über eine breite Palette von Rezepten, die die Herstellung anspruchsvoller Strukturen mit präzisem Ätzen, präziser Wiederholbarkeit und präziser Kontrolle von Ätzraten, Gleichmäßigkeit und Funktionsgröße erleichtern. Insgesamt bietet der AVR einen zuverlässigen und präzisen Prozess zum Ätzen und Abscheiden dünner Filme. Die Kombination aus fortschrittlichen Prozessen, präziser Wafer-Handhabung und vielseitigen Rezeptentwürfen machen es zu einem hervorragenden Werkzeug für verschiedene Anwendungen, von MEMs bis zur Großbearbeitung.
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