Gebraucht LAM RESEARCH / NOVELLUS CONCEPT One-150 #293821999 zu verkaufen
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ID: 293821999
Wafergröße: 6"
Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) system, 6".
LAM RESEARCH/NOVELLUS CONCEPT One-150 ist ein Mehrkammerreaktor, der für die Hochdurchsatzabscheidung von Dünnschichtmaterialien in der Halbleiterindustrie ausgelegt ist. Es verfügt über bis zu 150 Prozesskammern auf 4800 x 2400 mm Grundfläche und bietet branchenführende Abscheidungsdurchsatzgeschwindigkeiten, hohe Prozessgleichförmigkeit und optimierte Anlagenkonfiguration. NOVELLUS CONCEPT One-150 reactor basiert auf dem Konzept einer abwechselnd hellen und dunklen Kammer-Mehrkammerkonfiguration, wobei dunkle Kammern als Puffer- und Reaktantenkammern dienen. Die Pufferkammern werden verwendet, um die Prozessgleichförmigkeit zu erhalten, indem Prozessspezies sich ansammeln und gleichmäßig durch die Kammer fließen lassen. Die Reaktantenkammern stellen die für die Folienabscheidungsschichten notwendigen zusätzlichen Reaktantenarten zur Verfügung. NOVELLUS Reaktor verfügt über mehrere erweiterte Verarbeitungsfunktionen. Dazu gehören Hochtemperaturverarbeitung bis 1100 ° C und Druckbereiche bis 1000 mTorr. Dies bietet die Möglichkeit, Materialien sowohl mit höherer Geschwindigkeit als auch mit erhöhter Präzision zu verarbeiten. Darüber hinaus ist das System in der Lage, Dünnschichtabscheidungsprozesse mit hohem Durchsatz durchzuführen. Das Gerät verfügt zudem über eine integrierte Steuerungsmaschine, die ein schnelles Setup, Validierung und Rezept-Management ermöglicht. Das Steuerungstool umfasst eine intuitive grafische Benutzeroberfläche (GUI) für die schnelle Parametereinstellung sowie eine detaillierte Rezeptverwaltung, Prozessverfolgung und Bedienerprotokollierung. Dadurch wird sichergestellt, dass Prozessparameter während des gesamten Produktionslaufs konsistent und kontrolliert bleiben. Neben seinen Abscheidefähigkeiten bietet LAM RESEARCH CONCEPT One-150 Reaktor auch eine Vielzahl weiterer Verarbeitungsmöglichkeiten. Mit diesem Reaktor können auch Wafer mit naßchemischen Ätz- und Ionenimplantationstechniken bearbeitet werden. Darüber hinaus ermöglicht die Roboter-Anlage eine schnelle und sichere Substrattransfer, zusammen mit den Prozessen der Aufnahme, Sortierung und Positionierung. Schließlich ist CONCEPT One-150 Reaktor als offene Plattform konzipiert, die Anwendern eine einfache Integration in Fabrik-Automatisierungssysteme ermöglicht. Damit ist sichergestellt, dass der Reaktor bei minimaler Störung in vollautomatisierte Fertigungsstraßen integriert werden kann. LAM RESEARCH/NOVELLUS CONCEPT One-150 reactor ist mit seinen fortschrittlichen Verarbeitungsfunktionen, Hochdurchsatzgeschwindigkeiten und dem integrierten Regelungsmodell ein ideales Werkzeug für die Dünnschichtabscheidung in der Halbleiterindustrie.
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