Gebraucht LAM RESEARCH / NOVELLUS CONCEPT ONE #9079785 zu verkaufen
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ID: 9079785
Wafergröße: 6"
CVD (Tungsten) Systems, 6"
Generators
Pumps
Currently installed in fab, powered down.
LAM RESEARCH/NOVELLUS CONCEPT ONE ist ein globaler Co-Branding-Reaktor, der von NOVELLUS und LAM RESEARCH Systems entwickelt wurde. Es ist eine 300mm (12-Zoll) fortschrittliche Schritt-und-Wiederholungs-Ausrüstung, die für hochproduktive, präzise Ätzanwendungen im Mikrolithographiebereich entwickelt wurde, wie zum Beispiel bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen. NOVELLUS KONZEPT MAN verwendet eine, entfernte Hochleistungshoch-Temperaturplasmaquelle, die über die komplette Substratoberfläche beweglich ist. Dies ermöglicht eine hohe Genauigkeit von Mustern und Ätzeigenschaften mit schnellen Prozesszeiten. Der hochpräzise unabhängige Spannfuttermechanismus ermöglicht eine komplexe Strukturierung und die Luftlagerkomponenten liefern überlegene Bewegung ohne Beeinträchtigung der Teileleistung durch Wärmezyklen. LAM RESEARCH CONCEPT ONE ist mit einer Vielzahl von Zubehörteilen ausgestattet, die das System für verschiedene Ätzanwendungen geeignet machen. Erstens umfassen die Kühlsysteme ein Flüssig-Stickstoff-Teilsystem mit hoher Kapazität zur Kühlung von Wafern und Elektroden. Dies bietet eine präzise Temperaturregelung und eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit. Zweitens ist das Gerät mit 'dotierten Oxid' -HF-Generatoren ausgestattet, die ein gleichmäßiges elektrisches Feld im Plasma zur präzisen Steuerung von Ätzprozessparametern erzeugen. Drittens umfassen die optischen Systeme hochauflösende Kameras zur Ausrichtung des Zielmusters auf dem Substrat mit hoher Genauigkeit. CONCEPT ONE verfügt auch über eine Reihe von bordeigenen Metrologie-Tools, um die Ätzprozessleistung in Echtzeit zu messen. Dazu gehören ein Live-Laserscanner, ein Kantenprofil-Monitor und ein Defektdetektor, um die Wirksamkeit des Ätzprozesses zu beurteilen und Probleme wie Mustertreue, In-Die-Ätzprofil, Ätzrate usw. aufzuwerfen. Darüber hinaus ist LAM RESEARCH/NOVELLUS CONCEPT ONE mit einer Reihe von Überwachungsfunktionen ausgestattet, die On-Board-visuelle und Audiosignale bereitstellen, um Betreiber auf mögliche Prozessprobleme aufmerksam zu machen. NOVELLUS CONCEPT ONE bietet Anwendern eine fortschrittliche, schlüsselfertige Etch- und Lithographielösung, die auf ihre spezifischen Anforderungen an Meeting und Ätzanwendungen zugeschnitten ist. Die automatisierte Prozesssteuerungssoftware kümmert sich um alle Parameter und überwacht den Ätzprozess, sorgt für eine optimale Ausführung, verbesserte Ausbeute und Zuverlässigkeit sowie minimierte Ausfallzeiten. Insgesamt ist LAM RESEARCH CONCEPT ONE eine fortschrittliche, robuste und hochzuverlässige Ätzmaschine, die sich für ein breites Spektrum an Ätz- und Lithographieanwendungen eignet. Seine Reihe von bordeigenen Messtechnik-Tools, automatisierte Prozesssteuerungssoftware, hochgenaue Musterung, Temperaturregelung und unabhängiger Spannmechanismus machen es zu einer idealen Lösung für hochproduktive, präzise Ätzanwendungen im Mikrolithographiebereich.
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