Gebraucht LAM RESEARCH / NOVELLUS CONCEPT ONE #9364618 zu verkaufen

LAM RESEARCH/NOVELLUS CONCEPT ONE ist ein mehrzoniger, hochleistungsfähiger Chargenreaktor, der eine Vielzahl von Dünnschichtabscheidungen und Prozessanforderungen erfüllt. NOVELLUS CONCEPT ONE ist auf einer robusten Plattform aufgebaut, die wiederholbare Gleichmäßigkeit und genaue Materialflusssteuerung bietet. Es besteht aus mehreren integrierten Komponenten, einschließlich einer Prozesskammer, einem Wafer-Transferroboter und einer Steuereinrichtung. Die Prozesskammer ist so ausgelegt, dass sie die Prozessgase innerhalb einer abgedichteten Reaktionszone enthält und umwälzt, um eine bessere Filmgleichförmigkeit zu erzielen. Die Kammer ist weiter mit einer oben angelenkten Tür ausgestattet, die einen einfachen Zugang für Wartung und Wartung ermöglicht. Der Wafer-Transferroboter transportiert Halbleiterscheiben automatisiert durch die Prozesskammer, um die Belichtungszeit für gefährliche Gase zu minimieren und gleichzeitig eine genaue Filmabscheidung über jeden Wafer zu gewährleisten. Das Steuerungssystem ist eine vollständig integrierte Suite von Software- und Hardwarekomponenten, die alle Aspekte des Prozesses überwachen und steuern sollen. Es kann programmiert werden, Parameter automatisch anzupassen, um die Gleichmäßigkeit, den Durchsatz und die Reproduzierbarkeit des Films zu optimieren. LAM RESEARCH CONCEPT ONE bietet alle Funktionen, die notwendig sind, um eine qualitativ hochwertige und durchsatzstarke Dünnschichtabscheidung zu erreichen. Die Prozesskammer ist mit einer Hochdruckgasverteilereinheit ausgestattet, die eine effektive Vermischung von Abscheidegasen und eine verbesserte Filmgleichförmigkeit ermöglicht. Es verwendet eine beheizte Suszeptor-Stil Wafer-Handling-Maschine zur Verringerung der Grenzflächenverschmutzung und Verbesserung der Substrathaftung. Alle Komponenten sind mit dem Steuerwerkzeug integriert, das für jede abgeschiedene Schicht automatisch Temperatur, Gasfluss und Druck akklimiert. Der Mehrzonen-Chargenreaktor ermöglicht eine präzise Steuerung der Prozessbedingungen und ermöglicht somit optimale Filmeigenschaften von Wafer zu Wafer. Darüber hinaus kann das Asset einfach für andere Prozessanwendungen wie Ätzen, Nanostrukturieren und photonische Geräteherstellung angepasst werden. CONCEPT ONE bietet eine zuverlässige, benutzerfreundliche und effiziente Lösung für viele Dünnschichtabscheidungsprozesse. Seine modernsten Eigenschaften, Einheitlichkeit und Wiederholbarkeit machen es zu einer idealen Wahl für jedes Unternehmen, das Dünnschichtablagerungen auslagern möchte.