Gebraucht LAM RESEARCH / NOVELLUS Sequel #293614939 zu verkaufen

LAM RESEARCH/NOVELLUS Sequel ist ein kombiniertes physikalisches Aufdampf- (PVD) und Ätzprozesswerkzeug (RIE) für die Herstellung mikroelektronischer Geräte. Dieses Werkzeug wird für Anwendungen wie das Bilden von Schichten aus leitenden und dielektrischen Materialien auf der Oberfläche eines Substrats und das Erzeugen von Vorrichtungsmustern wie Kontakten und Vias verwendet. Der sequencial Prozess von NOVELLUS Sequel Tool ist in zwei Teile Trennung aufgeteilt. Der erste Teil ist das physikalische Aufdampfverfahren (PVD), mit dem die leitenden und dielektrischen Materialschichten abgeschieden werden. Dieser Teil stellt eine Ultrahochvakuumkammer dar, die beim Aufbringen der Materialschicht das Substrat enthält. Das Material wird aus einer erhitzten Quelle verdampft und dann auf der Oberfläche des Substrats kondensiert, wodurch eine gleichmäßige Schicht entsteht. Der zweite Teil dieses Prozesses ist der Etch (RIE) -Schritt, mit dem die Merkmale wie Kontakte und Vias in die Materialschichten definiert werden. Dieser Schritt erfolgt durch Verwendung eines hochreaktiven Plasmas zur Anregung der Donormoleküle. Dieses Verfahren dient als Mechanismus, um bestimmte Materialien oder Merkmale präzise zu entfernen, was mit herkömmlichen Ätztechniken in der Regel schwierig zu erreichen ist. Die kontrollierte Ätzrate auf den Materialien wird dann durch die Hochfrequenzleistung beeinflusst, die die Dichte und Energie des Plasmas steuert. LAM RESEARCH Sequel-Prozess bietet eine qualitativ hochwertigere Oberflächenbearbeitung, indem die beiden Prozesse in einem System integriert werden, so dass die physikalischen und chemischen Prozessschritte in einem einzigen Werkzeug kombiniert werden können. Mit diesem Zweiprozessschritt kann der Kunde höhere Präzision und verbesserte Wiederholbarkeit bei der Geräteherstellung erreichen. Das zweistufige Verfahren ist auch in der Lage, wünschenswerte Aspekte wie eine präzise Strukturierungssteuerung zur Verringerung der Schichtdicke von Merkmalsgrößen zu erreichen. Zusammenfassend ist das Sequel Tool ein hochmodernes Reaktorwerkzeug, das eine präzise Herstellung von mikroelektronischen Geräten ermöglicht. Es verwendet eine Zweiprozesskammer, um die physikalischen Aufdampfschritte (PVD) und Ätzschritte (RIE) gleichzeitig durchzuführen. Diese modernste LAM RESEARCH/NOVELLUS Sequel Technologie ermöglicht eine höhere Präzision und bessere Wiederholbarkeit in Bezug auf die Strukturierung von Gerätefunktionen.