Gebraucht LAM RESEARCH / NOVELLUS Vector XT #293649597 zu verkaufen

LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector XT Reactor ist ein multifunktionales Ätz- und Abscheidungswerkzeug für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Es kombiniert ultraviolette Laserbearbeitung, Gleichstrom-Plasmaätzung, hochdichte Plasmen und reaktive Gasabscheidung in einem einzigen Werkzeug, um eine umfassende, automatisierte Bearbeitungslösung zu bieten. NOVELLUS Vector XT ist eine vollständig integrierte Plattform, die sowohl Systemebene als auch Kammerebene steuert und eine vollständige In-situ-Prozesscharakterisierung und -diagnose ermöglicht. Die ultravioletten Laserbearbeitungsfähigkeiten von LAM RESEARCH Vector XT bieten einen hochpräzisen Strahl, der nanoskalige Strukturen mit extrem geringer Linienbreite präzise ätzen und abscheiden kann. Der Laser kann auch verwendet werden, um submikrongroße Schlitze mit scharfer Präzision und Seitenwandwinkeln sowie für eine schnelle „Black-Mask“ -Bearbeitung zu bilden. Durch die Nutzung von Gleichstrom-Plasmaätzen ermöglicht Vector XT Benutzern die Erstellung hoher Seitenverhältnisse, tiefer Gräben und Funktionen wie periphere Abschirmung durch Einsatz fortschrittlicher CCM-Techniken. Dadurch entfällt auch die Notwendigkeit zusätzlicher Vorätzschritte, was die Zykluszeit beschleunigt und Kosten reduziert. LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector XT unterstützt auch hochdichtes Plasma (HDP) zur Abscheidung von fortgeschrittenen Metallen, Oxiden und Dielektrika. Diese HDP-Prozesse bewirken eine minimale Umlagerung, die zum Abscheiden von Materialien erforderlich ist, die eine schlechte Haftung auf Oberflächen aufweisen. NOVELLUS Vector XT unterstützt auch die reaktive Gasabscheidung, um die Kontrolle der Filmstruktur weiter zu verbessern. Dies eliminiert Behandlungen nach der Abscheidung wie Reinigen, Spülen, Härten und Konditionieren, wodurch die gesamte Zykluszeit reduziert wird. Um seine Fähigkeiten weiter zu verfeinern, integriert LAM RESEARCH Vector XT eine Reihe von Diagnosen, um Herausforderungen in Echtzeit vor Ort anzugehen. Es ist mit einem optischen In-situ-Spektrometer ausgestattet, das eine Mehrwellenlängenanalyse zur Bewertung von Ätzrate, Abscheidungsrate und Materialeigenschaften bereitstellt. Dies liefert Feedback, um die Prozessparameter kontinuierlich anzupassen und eine optimale Balance zwischen Ertrag, Produktivität und Geräteleistung zu erzielen. Darüber hinaus unterstützt Vector XT auch die On-Wafer-RF-Messtechnik, um Ätzrate und Genauigkeit in Echtzeit zu überwachen. Insgesamt ist LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector XT Reactor ein All-in-One-Multichamber-Tool für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Es bietet eine präzise nanoskalige Strahlverarbeitung, Ätzfähigkeiten mit hohem Seitenverhältnis, Plasmaabscheidung mit hoher Dichte und reaktive Gasabscheidung. NOVELLUS Vector XT bietet auch fortschrittliche Diagnostik, einschließlich optischer Spektrometrie und On-Wafer-HF-Überwachung, um eine optimale Prozesscharakterisierung und -kontrolle zu gewährleisten. Diese Kombination von Funktionen bietet eine umfassende Lösung für die Herstellung von Halbleiterbauelementen.