Gebraucht LAM RESEARCH Sabre 3D #293811097 zu verkaufen

LAM RESEARCH Sabre 3D Reaktor ist ein fortschrittliches Ätzwerkzeug, das speziell für die Herstellung mit hohem Aspektverhältnis in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Dieses Single-Wafer-System nutzt die hochmoderne Elektron-Cyclotron-Resonanz (ECR) -Plasmatechnologie, um eine überlegene Ätzleistung zu erzeugen und die Ätzraten schwieriger Materialien zu optimieren. Durch den Einbau einer fortschrittlichen 3D-Elektrode in die Reaktionskammer wird die Leistungsfähigkeit des Sabre 3D-Reaktors gegenüber herkömmlichen ECR-Systemen deutlich verbessert. Diese Konstruktion ermöglicht es dem Anwender, präzise Mikrobearbeitungsergebnisse mit größerer Prozesssteuerung zu erzielen. LAM RESEARCH Sabre 3D-Reaktor ist gebaut, um schnelle Prototyping und Funktion Herstellung in Deep-Submicron-Technologie Knoten mit hohem Durchsatz zu erleichtern. Die ECR-Plasmaquelle, kombiniert mit den integrierten hochfrequenten volumetrischen ECR-Quellen, ermöglicht es dem Anwender, eine breite Palette von Materialien wie Silizium, Kupfer, Aluminium und andere zu ätzen. Die Nitrid-Passivierungsschicht des Sabre 3D-Reaktors ermöglicht schnelles Ätzen, ohne die Integrität des Wafers zu beeinträchtigen, und die Reinigungsfunktionen in situ gewährleisten eine minimale Oberflächenverschmutzung oder Beschädigung. Die Gleichmäßigkeit im Ätzprozess kann durch den Einbau fortschrittlicher Strömungsmanagementtechniken weiter verbessert werden. Dies ermöglicht eine Gleichmäßigkeit über die gesamte Waferoberfläche, was für die Prozessoptimierung und Fehlerregelung wichtig ist. Darüber hinaus bietet der 3D-Reaktor LAM RESEARCH Sabre integrierte Gaszufuhrsysteme für einen einfachen Prozessaufbau und eine verbesserte Prozesssteuerung. Diese Systeme ermöglichen eine präzise Parameterkontrolle zur Anpassung des Ätzprozesses. Die überlegene Prozesssteuerung des Sabre 3D Reaktors in Kombination mit seinem hohen Durchsatz macht ihn zu einer idealen Wahl für die Herstellung mit hohem Aspektverhältnis. Seine innovative dreidimensionale Elektrodendesign sorgt für Gleichmäßigkeit im Ätzprozess sowie reduzierte Ausfallzeiten aufgrund seiner Fähigkeit, die Kammer sauber zu halten. Es ist ein flexibles und leistungsstarkes Werkzeug für die Herstellung von tiefen Submikronen und eine zuverlässige Wahl für Branchen, die eine präzise Prozesskontrolle erfordern.