Gebraucht LAM RESEARCH Sabre 3D #9269753 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9269753
Plating system, 12"
Process: RDL
Operating system: Windows XP
Footprint:
Front end and back end robot
Wafer aligner
CDM for APT module
CDM for XMM module
PPT Module (2/4)
Plate A duet (1/2)
Bath module 1
Plate A flow distribution (1/2)
PMA Bath configuration: AANN
CE System settings:
Pod loader with buttons and lights-PS
Notch wafer, 12"
Standard polarity
Signal tower
EIOC Support
Advanced FA GEM and data server
HSMS Host connection
SEMI E84 Automated material handling system
Wafer history
Proteus configuration
Facilities chemical interface
Single arm front end robot
Dual arm back end robot
Real time clock timestamp source
Wafer aligner
CWS Wafer size detection
Single clamshell lift controller
CE Module front end settings:
IOC Type: Ethernet based IOC
(25) Wafers per cassette
SEMI E84 Automated cassette transfer
Active wafer centering
CA Event mode
(3) Load ports
Traverser (slide axis) vacuum robot
Ethernet pod loader communication
Extended fix loader command mode
With pod present sensor
Standard fix loader hardware
With pod present sensor
Default AMHS setting
Serial Port RFID communication
PPT2 AWC Enabled checking firmware
Robot pod loader map source
Pod loader, 13"
CE Module CDM for APT module:
ADM Process delivery: DI Process
CE Module CDM for XMM module:
PCDM Module type: SRD Configuration module
CE Module PPT module 2:
Notch wafer, 13"
Post treatment PPT module
PPT Tank type: ADM Process DI
Super cell configuration: SRD
Valve position sensors
DI Flow meter
CE Module PPT module 4:
Notch wafer, 13"
Post treatment PPT module type
Super cell configuration: SRD
Active Wafer Detection (AWD)
Valve position sensors
DI flow meters
N2 Dry
CE Module plate A duet 1 and 2:
Notch wafer, 13"
Cup and contact rinse
Separate Anode Chamber (SAC): Cascade
Serial plating power supply control
Single power supply
Cell flow meters: 5 to 50 Liters
88 I/O EIOC
Valve position sensors
SAC Flow meter
Standard SAC pump
CE Module bath module 1:
Chemical Monitoring System (CMS)
Enhanced CMS command set
Copper chemical package
Multi species dosing algorithm
(5) Species
Separate Anode Chamber (SAC): Cascade
Chemistry tray container bottles
(3) Organic dosing containers
NESLAB Heater chiller
VMS Facility request channel 1
Pump organic dose delivery
Dose pump flow switch
88 I/O EIOC
Central recirculation pump
Renner recirculation pump
Bath module 1
CE Module plate-A flow distribution 1 and 2:
FDM Flow meter: 0 to 80 LPM
Independent FDM pump
Central recirculation pump
No PMB Bath
2017 vintage.
3D Säbel von LAM RESEARCH ist eine hohe Geschwindigkeit, direkt schreiben Elektronbalkensteindruckverfahrenausrüstung, die dazu fähig ist, dreidimensionale Strukturen mit Eigenschaftsgrößen mindestens 30 Nanometer zu erzeugen. Es verwendet eine einzigartige, zum Patent angemeldete feldfreie Elektronenstrahlquelle, die ihm beispiellose Leistung in Geschwindigkeit, Auflösung und Mustertreue verleiht. Das 3D-System Sabre besteht aus einer Vakuumkammer, einer motorisierten Stufe und einem Waferhalter, einer Elektronenstrahlquelle, einer Abbildungseinheit und einem Steuerrechner. Die Vakuumkammer erzeugt eine Hochvakuumatmosphäre (~ 10-9 Torr), die notwendig ist, damit sich der Elektronenstrahl ungehindert zum Wafer bewegt. Die motorisierte Stufe positioniert den Probenwafer in der Kammer und der Waferhalter hält den Wafer fest. Der Elektronenstrahl wird in einer feldfreien Elektronensäule erzeugt und beschleunigt, was Feldstreuung und Ablenkung minimiert. Der Strahl durchläuft eine elektrooptische Abbildungsmaschine, die das Muster auf den Wafer abbildet. Das Werkzeug umfasst ferner einen Steuerrechner, der die erforderliche Signalverarbeitung und Steuerung der Abbildungsmittel und Waferstufen bereitstellt und mit einem gerätespezifischen Mustergenerator verbunden ist. Dadurch kann der Benutzer die gewünschten Muster definieren und in das Modell eingeben. Der Benutzer kann die Geräte mit der intuitiven grafischen Benutzeroberfläche auf dem Steuerrechner einfach bedienen und kalibrieren. LAM RESEARCH Sabre 3D-System ist in der Lage, sehr hochauflösende Muster auf Wafern aus beliebigem Material, einschließlich Halbleitermaterialien, abzubilden. Es verfügt auch über fokussierte Elektronenstrahlenergien bis zu 15 keV und Strahlstrom bis zu 100nA, mit Musterschreibgeschwindigkeiten von bis zu 175 Wafern/Stunde. Dies ermöglicht die Erzeugung dreidimensionaler Strukturen mit KE-Größen bis zu 30 nm. Sabre 3D Unit ist ein unschätzbares Werkzeug für die Erforschung und Entwicklung neuer Materialien und Fertigungsprozesse, insbesondere bei nanoskaligen Strukturen. Diese Maschine bietet eine kostengünstige und leistungsstarke Lösung für die Herausforderungen einer atomar präzisen Fertigung. Es ist die ideale Wahl für Forscher und Hersteller, die höchste Präzision und Geschwindigkeit benötigen.
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