Gebraucht LAM RESEARCH Sabre XT #9223294 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9223294
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2007
Electro copper plating system, 8"
Wafer cassette: 25 Wafer
Mini-environment: SYNETICS
Chase computer/monitor: Desktop PC/CRT
Exhaust kit: Top mount
Drain kit: Backside
Cassette handler module:
Load port: Static nests, (4) stations
Wafer aligner type: Mechanical center finder
Robot type: AQR7 BROOKS
End effector: SST x/Vacuum port
Mapping type: Thru-beam
Wafer release: With puff
Plating cell configuration:
Cell 1 / Cell 2 / Cell 3:
Clamshell type: Standard
Clamshell cup type: PPS
Clamshell cylinder: Pressure vacuum cylinder
ANODE Type: Standard
(2) TI Cables
SAC
Clamshell lift: IAI
ACR
Active top hat
Plating power: AE Pulse power supply
Post plating cell configuration:
Cell 1 / Cell 2 / Cell 3:
Chuck type: PPS
Wafer present sensor mount: Standard
EBR
Bath Module
Totalizer #1 / #2: FLORITE
Dosing pump 1 / 2 / 3: MS1602-024
Recirculation pump mpdel: IWAKI WALCHEM CMD-101
CDM Level sensor type: KEYANCE
Heat exchanger: NESLAB HX-75
Auxiliary equipment:
Chemical monitoring system (CMS): ECI QLC-7000
Chemical delivery system (CDS)
Mini delivery system (MDS)
DI Water delivery system
Input voltage: 208 VAC, 50/60 Hz, 100 A
2007 vintage.
LAM RESEARCH Sabre XT ist eine Niederdruck-, Mehrkammer-, atmosphärische Plasmaausrüstung, die zur Optimierung von Ätz- und Abscheidungsprozessen in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es ist die zweite Generation der Sabre-Produktfamilie und ist ein Ergebnis umfangreicher Forschungen von LAM RESEARCH-Ingenieuren. Sabre XT verfügt über fortschrittliche Technologie für verbesserte Leistung und Prozesskontrolle. Es ist mit einem magnetisch gekoppelten, mehrstufigen System ausgestattet, das die Abscheidekammerentlüftung reduziert und eine bessere Kontrolle über Ätzselektivität und Profileigenschaften bietet. Der Reaktor zeigt auch einen, Unterdruckvier-Zonen-Prozess der angezündeten Heizungen, der entworfen wird, um einheitliche Absetzungsraten innerhalb des ätzen Raums zu sichern, um optimale Ergebnisse zu erreichen. Darüber hinaus enthält LAM RESEARCH Sabre XT auch ein verteiltes Power-Relay und Process Monitoring and Control (PMC) Softwarepaket zur einheitlichen Prozesssteuerung und -optimierung. Sabre XT verfügt auch über eine „programmierbare“ Kammer für Prozessautomatisierung und Anpassung. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung der Ätz- und Ablagerungsprozessparameter, wodurch der Durchsatz und die Ätzausbeuten weiter verbessert werden. LAM RESEARCH Sabre XT verfügt über einen Partikelmasker und eine Filtermaschine, die helfen kann, die Auswirkungen des Partikelaufbaus zu reduzieren und eine sauberere, gleichmäßigere Reaktionsoberfläche zu gewährleisten. Sabre XT ist ein vielseitiges Tool, das entwickelt wurde, um die Herstellung einer Vielzahl von Halbleiterprodukten zu unterstützen, darunter DRAMs, Flash-Speicher, Mikrocontroller, programmierbare Logik, CPUs, Speicher-ICs und SoCs. Es ist ein Industriestandard für viele Produktionslinien und kann High-End-Prozesse wie Ätztiefeneinstellung und Lithographie durchführen. Der Reaktor ist sehr zuverlässig, mit einer mittleren Zeit zwischen Ausfällen von 20.000 Stunden. LAM RESEARCH Sabre XT ist ein robustes, zuverlässiges Reaktormodell, das perfekt für jede Halbleiterfertigungslinie geeignet ist. Mit fortschrittlicher Technologie, programmierbarer Kammer und überlegener Partikelmaskier- und Filterausrüstung ist Sabre XT die perfekte Lösung für höchste Qualität bei Ätz- und Abscheidungsprozessen.
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