Gebraucht LAM RESEARCH Sabre #9200240 zu verkaufen
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LAM RESEARCH Sabre ist eine Hochleistungs-Plasmaätzanlage von LAM RESEARCH für Halbleiteranwendungen. Dieses System nutzt eine einzigartige Multi-Mode-Prozesskammer, um mehr Ätzflexibilität zu bieten und es Kunden zu ermöglichen, eine überlegene Ätztiefe und hohe Selektivität für ihren Prozess zu erreichen. Säbelprozesskammer verwendet eine fortschrittliche Hohlkathoden-Konstruktion, die für das Ätzen optimiert ist. Es wurde entwickelt, um hohe Ätzraten, einheitliche Ätzprofile und ausgezeichnete Selektivität zu liefern. Das Gerät verfügt über einen robusten HF-Generator, mit dem Benutzer schnell die Parameter für ihr gewünschtes Ätzprofil einrichten und anpassen können. Die Maschine kann abgestimmt werden, um die optimale Leistung für verschiedene Ätzrezepte zu bieten. Benutzer können auch aus einer Vielzahl von Kammerkonfigurationen wählen, je nach ihren Bedürfnissen. Das Tool kann entweder mit einem einzigen oder zwei Gas-Duschkopf konfiguriert werden, so dass Kunden die beste Option für ihre jeweilige Anwendung wählen können. LAM RESEARCH Sabre Prozesskammer nutzt auch LAM RESEARCH SureGrip™ Technologie, die eine präzise Ätzkontrolle und Wiederholbarkeit ermöglicht. Die Kammer enthält außerdem einen aktiven Plasmakollimator, der eine verbesserte Ätzgleichmäßigkeit und Prozesswiederholbarkeit ermöglicht. Darüber hinaus umfasst Sabre Asset Prozesskontrollsoftware, die Anwendern hilft, ihre Leistungsziele schnell zu erreichen. LAM RESEARCH Sabre-Modell kann für verschiedene Ätzprozesse verwendet werden, einschließlich tiefer und flacher Ätzung für Funktionen mit hohem Seitenverhältnis. Es ist ideal für die Mikrobearbeitung ultra-kleine Funktionen, und kann für Trockenätzen oder Photoresist Ätzen verwendet werden. Das Gerät verfügt auch über eine geringe Gasströmungsfähigkeit, so dass Benutzer mit minimalem Gasverbrauch ätzen können. Insgesamt ist der Sabre-Reaktor von LAM RESEARCH ein hochfähiges Ätzsystem, das eine hervorragende Ätzleistung und Zuverlässigkeit bietet. Seine breite Palette an Konfigurierbarkeit und Funktionen machen es zu einer großen Auswahl für eine Reihe von Halbleiterprozessen und bieten Anwendern eine effektive Lösung für ihre Bedürfnisse.
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