Gebraucht MATTSON EpiPro 3000 #9003702 zu verkaufen
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ID: 9003702
Reactors
Dual station
Chamber: 94" x 50" x 62"
R2 Reactor chamber: 94" x 50" x 62"
Electrical console
AC Power module
Remote interface module
UPS Module
Pillar vacuum tube oscillator RF generators, 125 kW
Generator pump module: (Pillar only)
(2) Bell jars
RF Coils assy and quartz
Heat exchanger: Water to water
Gas inlet requirements:
Gas / Inlet pressure / Tubing diameter x wall thickness
N2 / 50-100 PSIG (1) / 3/8" x 0.035"
H2 / 50-80 PSIG (2) / 3/8" x 0.035"
HCL / 15 PSIG Regulated (3) / 1/4" x 0.035"
Dopants / 35 PSIG Regulated / 1/4" x 0.035"
SiCl4 / 20 PSIG Regulated / 3/8" x 0.035"
SiHCl3 / 20 PSIG Regulated / 3/8" x 0.035"
SiH2Cl2 / 7 PSIG Minimum / 3/8" x 0.035"
Pneumatic Air/N2 / 90-100 PSIG Regulated / 3/8" x 0.035"
N2 (Vacuum seal) / 80-100 PSIG (3) / 1/4" x 0.035"(1)
Gas purity:
H2: Greater than 99.95% minimum assay
Oxygen content must be less than 2 ppm
Water content must be less than 2 ppm
HCl: Greater than 99.99% (semiconductor grade)
Silicon sources – Greater than 100 ohm/cm intrinsic
Dopants: Greater than 99.99% H2 free basis
Maximum gas flows and volumes:
System / H2 / N2 / H2 / N2
Mainstream / 300 / 70 (2) / 300 / 70
High flow bypass (Fixed) / 200 / 100 (1) / 200 / 100 (1)
SiCl4 / SiHCl3 Carrier / 30 / - / - / -
Dopants dilution / 30 / - / - / -
RF Coil / Lower reactor purges / 30 / 10 / 30 / 10
Gas panel purges (Fixed) / 12 / 4 / - / -
Rotation purges (Fixed) / 10 / 2 / 10 / 2
Total N2/H2 flows / 612 / 186 / 540 / 182 (1) N2 flow rate during pre-post purge
Quartz cleaning facility:
Pedestal / 30-0R-281 / 4 1/2" diameter x 12" long
Support rod / 30-0R-139 / 1" diameter x 5" long
Coil cover / 30-0Z-000 / 25" diameter x 2" thick
Insulator, high Side / 30-0Z-857 / 3" diameter x 6" long
Insulator, bottom / 30-0Z-766 / 4 1/2" diameter x 1/4" thick
Insulator, top / 30-0Z-791 / 4 1/2" diameter x 1/4" thick
Insulator, high side / 30-0Z-793 / 5" x 4"
Insulator, middle / 30-0Z-794 / 5" x 4"
Inject tube / 30-0Z-758 / 1/2" diameter x 11" long
Tube cover / 30-0Z-1037 / 1/2" diameter x 9" long
Rod, fiber optic / 30-0Z-1037 / 1/4" diameter x 13"
Power requirements:
RF Generator: 480 VAC, 400 A, 3-Phase, +GND
Water system: 480 VAC, 30 A, 3-Phase, +GND
Electrical service: 10 KVA at 200-240 VAC, 50 amps, 50/60 Hz, single phase, 3 wire (6 ga) plus ground.
MATTSON EpiPro 3000 ist ein fortschrittlicher Halbleiterabscheidungsreaktor für großflächige Epitaxie und Abscheidung. Dieser Reaktor bietet eine zuverlässige Produktion mit reduzierten Betriebskosten. Es verfügt über Hochtemperatur- und Hochpräzisionsbetrieb für bis zu 500 mm Wafer und bietet wiederholbare Prozessgleichförmigkeit bei stark reduzierten Betriebskosten. EpiPro 3000 verwendet fortschrittliche Designs und Funktionen, um Wiederholbarkeit und Genauigkeit in jedem Halbleiterabscheidungsprozess zu gewährleisten. Es verfügt über eine schwingungsarme, kollisionslose Gasquelle, die wirklich gleichmäßige Verarbeitungsergebnisse ermöglicht. Angetrieben wird die Waferstufe durch eine ultrapräzise Bewegungssteuerung, die maximale Stabilität und Wiederholbarkeit bietet. Der Hochtemperaturbetrieb dieses Reaktors wird durch hocheffiziente Metallkeramik-Plattierung optimiert. Das patentierte geschlossene Elektrodenantriebssystem eliminiert den Schwingungs- und Driftausgleich und sorgt für präzise Elektrodentaktierung und höchste Stabilität. MATTSON EpiPro 3000 bietet eine Vielzahl leistungssteigernder Funktionen wie programmierbares Rezeptmanagement, In-situ-Analyse und -Überwachung sowie verteilte Vernetzung. Diese Funktionen bieten Anwendern eine höhere Kontrolle und erhöhte Genauigkeit über jeden Abscheidungsprozess. Die Benutzerfreundlichkeit des Reaktors wird durch seine integrierte Steuereinheit, die einen minimalen Eingriff des Bedieners erfordert, weiter erhöht. Darüber hinaus bietet EpiPro 3000 eine komplette Reihe von Umweltschutzfunktionen, wie Gasspül- und Wäschereinheiten. Dadurch wird sichergestellt, dass der Reaktor den regionalen Sicherheitsstandards entspricht. Der Reaktor ist mit Blick auf Sicherheit und Zuverlässigkeit gebaut und ist mit einer effektiven vorbeugenden Wartungsmaschine ausgestattet, um die Betriebszeit und Prozessstabilität zu maximieren. MATTSON EpiPro 3000 ist ein fortschrittlicher und leistungsstarker Abscheidungsreaktor, der eine hervorragende Prozesswiederholbarkeit und -genauigkeit bietet. Die geringen Betriebskosten und das benutzerfreundliche Design machen es zu einer idealen Wahl für eine Vielzahl von Anwendungen mit großflächigen Halbleiterabscheidungsprozessen.
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