Gebraucht MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Exim #293609622 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 293609622
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2017
PVD System, 12"
Process: MRAM
CIM: SEC
Fab section: Thin film
Handler: (4) Transfer Robots
Factory interface: (3) FOUP
Option: (4) PVD Chambers
Cool Chamber
Preclean Chamber
NESLAB SWX100 Heat exchanger
(2) UPS
(5) Cryo compressors
(2) Main MPD
2017 vintage.
MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Exim ist ein Reaktortyp, insbesondere ein CVD-Werkzeug (Chemical Vapor Deposition), das für die Entwicklung elektronischer Komponenten und Materialien verwendet wird. Der Reaktor ist so konzipiert, dass er eine hochreine Prozesskammerumgebung, einen breiten Prozessbereich und eine präzise Prozesssteuerung bietet. MRC Exim Reaktor wird hauptsächlich in der Herstellung von Halbleiterscheiben und Flachbildschirmen verwendet. Die TEL Exim Reaktorfamilie besteht aus drei Maschinentypen, XE100, XE200 und XE300, die jeweils für unterschiedliche Funktionalitäten ausgelegt sind. Das XE100 ist im Wesentlichen ein einziges Wafer-Tool und ist eine wirtschaftliche, aber vielseitige Plattform, die mehrere Batch-Verarbeitungsfunktionen bietet. Die XE200 ist etwas komplexer und ist für Hochleistungs-Einzelwaferanwendungen wie Ätzen und Abscheiden komplexer Oxide ausgelegt. Und schließlich ist das XE300 Modell das fortschrittlichste der drei, bietet Integration mit MRC-Prozessleitsystemen und volle Batch-Verarbeitungsfähigkeit. TOKYO ELECTRON Exim Reaktor ist hauptsächlich aus Edelstahl gefertigt, je nach den Anforderungen robuster Halbleiterherstellungsumgebungen. Die Konstruktion umfasst eine Prozesskammer zum Einführen und Bearbeiten der Wafer sowie Anschlüsse zur Plasmaerzeugung, Injektion von Chemikalien, Heizelementen und Evakuierung von Nebenprodukten. Darüber hinaus werden Sicherheitsmerkmale verwendet, um das Personal vor gefährlichen Materialien und Dämpfen zu schützen, die während des Prozesses entstehen. Der Reaktor ist so konzipiert, dass er eine Reihe von Prozessparametern unterstützt, darunter schnelles thermisches Glühen, MOCVD, PECVD, Ätzen und Photoproduktion. Diese Verfahren werden durch gasförmiges Einbringen notwendiger chemischer Vorstufen erreicht, die dann schnell erhitzt und zur Bildung des gewünschten Produktes aktiviert werden können. Durch die präzise Manipulation von Temperatur, Druck und den verschiedenen gasförmigen Umgebungen in der Kammer können unglaublich präzise und wiederholbare elektronische Bauteile und Materialien entwickelt werden. Exim-Familie von Reaktoren ist ein hochflexibles und robustes Werkzeug, das verwendet werden kann, um hochpräzise und zuverlässige elektronische Komponenten und Materialien zu schaffen. Durch sein breites Spektrum an Prozessfähigkeiten und seine präzise Prozesssteuerung ist dieser Reaktor ein unschätzbares Werkzeug für jede moderne Halbleiterherstellungsanlage.
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