Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2 #9093685 zu verkaufen

NOVELLUS Concept 2, Altus 2 ist ein CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition) oder eine Kammer zur Abscheidung dünner Filme aus hochreinen Materialien auf der Oberfläche eines Substrats. Der Altus 2 ist in der Lage, bei hohen Temperaturen von 300 ° C bis 650 ° C eine Vielzahl von Materialien wie epitaxiales Silizium, Polysilizium, Oxide, Nitride und Karbide abzuscheiden. NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2 besteht aus einer Modulbasis, einer Prozesskammer mit integrierter Schaltung, einer Türbaugruppe, einer Stromversorgung, einem Gaskrümmer und verschiedenen anderen Komponenten. CONCEPT 2 Altus 2 Reaktor besteht aus einer zylindrischen Edelstahlkammer, in die das Substrat eingelegt wird. Die Kammerwände bestehen aus 316L Edelstahl und haben eine Dicke von 4,8 mm. Die Wände sind nach innen zum Boden der Kammer hin verjüngt, was eine effiziente Wärmeverteilung ermöglicht. Das Substrat liegt auf dem Aluminium-Heizblock auf, wo es auf die gewünschte Temperatur erhitzt wird. Das Quellgas wird am Oberteil der Kammer (max. 8 Zoll entfernt) über ein Fördersystem eingeleitet. Der NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2 Reaktor kann entweder im Gleichstrommodus (Gleichstrom) oder im Hochfrequenzmodus (Hochfrequenz) betrieben werden. Im Gleichspannungsmodus wird das Substrat auf einem Niederspannungspotential gehalten, wodurch ein kontinuierlicher Film aus abgeschiedenem Material entsteht, während der HF-Modus Metallpartikel in der Filmschicht bildet. Das Netzteil liefert einen Strom von bis zu 400 A (DC-Modus) und kann so eingestellt werden, dass die Abscheiderate variiert wird. CONCEPT 2 Altus 2 verfügt über ein integriertes Force-Based Flow Control (FBFC) System, das eine präzise Abgabe von Prozessgasen ermöglicht, während die Gas Mix Ratio Diode Array Detektoren (GM-RADs) die Abscheidungsumgebung kontinuierlich überwachen. Die Betriebsparameter des Reaktors können mit Hilfe der eingebauten Steuerung eingestellt werden, wodurch zwischen verschiedenen Rezepturen der abzuscheidenden Materialien umgeschaltet werden kann. NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2 verfügt zusätzlich über drei Gaskrümmerleitungen mit der Fähigkeit, bis zu drei reaktive Gase gleichzeitig in die Kammer einzuleiten. Abschließend ist CONCEPT 2 Altus 2 ein sehr vielseitiger und effizienter CVD-Reaktor, der dünne Filme aus hochreinen Materialien unter stark kontrollierten Betriebsbedingungen auf Substraten abscheiden kann. Es verfügt über mehrere Konstruktions- und Sicherheitsmerkmale, die es zuverlässige und kostengünstige Verwendung machen.