Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2 #9093687 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2
ID: 9093687
Wafergröße: 8"
Chamber, 8" Facility and Interface: Altus module locations: Dual: Port 2 and 3 WTS (backbone) facilities connection configuration: Bottom facilities installation Remote interconnect cables: 75 feet Modular power distribution [MPD, DUAL, ALTUS, C2PDP]: 01-298450-11 DLCM-S: ROBOT ASSY, MAG7, BISYMMETRIK ARM, DLCM: 02-262359-00 Transfer module to chamber valve (SMC Valve): 02-121427-00 Throttle valve kit, DLCM-S: 04-048579-02 Loadlock gate valve, SMC: 02-133799-00 Readiness kit: Dual altus ready Software/Controls: Module controller type: 02-272554-00, MC3 System controller type: 02-267883-00, MC3 System software (QNX): 5.1 DLCM-S IOC: 0 - IOC - 4.1 2 - IOC - 4.1 3 - IOC - 4.1 Altus IOC: 0 - SIOC - 4.30 1 - SIOC - 4.30 2 - SIOC - 4.30 3 (MPD) - SIOC - 4.10 Chase UI Kit: 02-117110-00 Process Chamber configuration: SHWRHD, 200 mm, Style B: 03-00258-00 ASSY, PED, 200 mm MOER, D.3, SEMI: 02-033134-01 EXCL RING, 200 mm, 2.0 mm OH SEMI: 15-032777-00 Indexer plate, HUB: 15-034848-00 INDEXCER, WF, EXCL, OPTION, 200 mm: 15-00934-02 Spindle assembly: 02-126697-00 OPT ENDPT DET'R, MSTR, ALT-S: 04-0120458-00 Throttle Valve MKS (Pressure control valve): 27-250285-00 Gate valve, vat: 60-10015-00 Gas box configuration (CESCVD02177B): Manifold A 1: Aera FC-7800CD, AR/2 SLM Manifold A 3: Aera FC-7800CD, H2/20 SLM Manifold B 6: Aera FC-7800CD, C2F6/2 SLM Manifold B 7: Aera FC-7800CD, O2/2 SLM Manifold D 2: Aera FC-7800CD, SiH4/100 SCCM Manifold H D: Aera FC-7800CD, Ar/20 SLM Manifold W 4: Aera FC-7800CD. AR/20 SLM Manifold W 5: Aera FC-7800CD, WF6/1 SLM Manifold C 8: Aera FC-7800CD, Ar/10 SLM Manifold C 9: Aera FC-7800CD, H2/20 SLM Baratron: Altus, CAP MANOMETER, HEATED 100 TORR: 27-10340-00 Altus, CAP MANOMETER, HEATED 10 TORR: 27-10343-00 Altus, Backside, CAP MANOMETER< HEATED 100 TORR: 27-10340-00 DLCM-S, LOADLOCK, CAP MANOMETER, HEATER 100 TORR: 27-10340-00 DLCM-S, TM, CAP MANOMETER, HEATED 100 TORR: 27-10340-00 Supporting remote units: (1) Process pump per process chamber: BOC Edwards, IH1000 - x2 for process pump typical (1) Pedestal pump per process chamber: BOC Edwards, i80 - x2 for pedestal pump typical (1) TM pump per system: BOC Edwards, i80 - x1 for TM pump typical (1) LL pump per system, BOC Edwards, i80, x1 for LL pump typical.
NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2 ist eine Doppelfrequenz-Dual-Source-Version der NOVELLUS CONCEPT 2 Reactor-Plattform. Dieser Reaktor wird von einem zweistufigen Flachbildschirm und modularen Steuergeräten überwacht, wodurch er hocheffizient und einfach zu verwalten ist. Es verfügt über zwei separat einstellbare Quellen für Hochfrequenzenergie, die eine breite Palette von Prozesssteuerung ermöglichen. Es verfügt über erweiterte Geschwindigkeitsregelungsfunktionen, die Präzisionsprozesssteuerung und Gleichmäßigkeit über den Wafer ermöglichen. Dieser Reaktor hat auch die Fähigkeit, genaue Temperatur- und Gasflusseinstellungen vorzunehmen, wodurch die genauen Prozessanforderungen für spezialisierte Dünnschichtabscheidungen weiter möglich sind. CONCEPT 2 Altus 2 Reaktor basiert auf dem traditionellen induktiv gekoppelten Plasmaprozess. Es handelt sich um einen Niederdruck-Planarreaktor auf Basis von Single-Source II-V, der das Plasma mittels Self-Bias induziert. Das System läuft mit zwei Frequenzen; 13,65 MHz für die untere Quelle und 27,3 MHz für die höhere Quelle. Der Dual-Frequenz-Setup ermöglicht mehr Kontrolle des Prozesses und verbesserte Leistung. Der Zwei-Frequenz-Aufbau ermöglicht auch die Verwendung mehrerer Gasströme, die eine präzise Steuerung von Abscheideprozessen ermöglichen. Das speziell für die Montage entwickelte Monitor- und Steuergerät ist benutzerfreundlich und effizient. Es bietet eine engmaschige Kontrolle des Abscheideprozesses dank vollständiger Prozessüberwachung und optimierter Parameterabwicklung. Der mehrfach beheizte Substratanschluss ermöglicht maximale Flexibilität bei der Entwicklung von Prozessen. Es verfügt über integrierte Sicherheitsfunktionen, die es dem Bediener ermöglichen, vor unerwünschten Prozessänderungen aufgrund von Bedienungsfehlern oder Geräteänderungen zu schützen. NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2 Reaktor bietet Anwendern eine zuverlässige und effiziente Maschine für die Durchführung von fortgeschrittenen Forschungsstudien. Es verfügt über einen flexiblen, modularen Aufbau, der Rapid Prototyping und die Produktion im Labormaßstab ermöglicht. Das umfassende Steuerungstool sorgt dafür, dass Prozesse nach strengsten Vorgaben durchgeführt werden. Dieser hochmoderne Reaktor wird kontinuierlich aktualisiert, um mit den neuesten Technologien und Anforderungen der IC-Fertigungsindustrie Schritt zu halten. CONCEPT 2 Altus 2 Reaktor ist ein zuverlässiges und effizientes Werkzeug zur Herstellung verschiedener Dünnschichtstrukturen.
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