Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2 #9093689 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2
ID: 9093689
Wafergröße: 8"
Chamber, Tungsten, 8".
NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2 Reaktor ist eine chemische Dampfabscheidung (CVD) Reaktorausrüstung, die zur Beschichtung der Oberfläche von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Dieser CVD-Reaktor ist speziell für Prozessgeometrien von 20 nm und darunter konzipiert und eignet sich ideal für die Entwicklung von Funktionen in erweiterten Speicher- und Logikgeräten. Das einzigartige Design des Altus 2 Reaktors sorgt für optimale Ergebnisse für alle Abscheidungsbedürfnisse. Der Altus 2 Reaktor nutzt ein lineares Roboterbewegungssystem. Diese Bewegungseinheit ermöglicht eine präzise Materialabscheidung mit schneller Geschwindigkeit. Die beschleunigte Linearbewegungsmaschine ist mit einem hocheffizienten Gasförderwerkzeug gekoppelt. Diese Ressource sorgt für einen schnellen Gasfluss zur Reaktoroberfläche und ermöglicht schnelle, genaue Abscheidungen. Der Altus 2-Reaktor ist in der Lage, mehrere Abscheidungen gleichzeitig durchzuführen. Es verfügt über eine Dual-Source-Fähigkeit, ermöglicht sowohl dielektrische und Metall-Abscheidung gleichzeitig, oder mehrere verschiedene Materialien gleichzeitig. Dies ermöglicht eine schnelle Bearbeitung von Abscheideaufgaben und eine geringere Produktionsumlaufzeit. Das fortschrittliche Prozesssteuermodell des Altus 2 Reaktors sorgt für eine unterbrechungsfreie Abscheidung innerhalb enger Toleranzen. Das Gerät kann mehrere Rezepte speichern, die für schnelle Prozessänderungen leicht zurückgerufen werden können. Das eingebaute „saubere und sichere“ Feature des Altus 2 Reaktors sorgt dafür, dass Prozessänderungen die Sensoren und andere Komponenten des Reaktors nicht verunreinigen oder beschädigen. Das einzigartige Design des Altus 2 Reaktors ist für maximale Leistung und Gleichmäßigkeit der Abscheidung optimiert. Das patentierte gleichmäßige Gasfördersystem sorgt für Gleichmäßigkeit auf jeder Substratgröße oder -form. Der Drei-Zonen-Heizmechanismus des Altus 2-Reaktors minimiert thermische Schäden und sorgt für gleichmäßige Prozessergebnisse auf dem Substrat. Der Altus 2 Reaktor ist mit fortschrittlichen Sicherheitsfunktionen für Benutzer konzipiert. Die Bordüberwachungssysteme des Reaktors Altus 2 können Benutzer auf mögliche Sicherheitsprobleme erkennen und warnen und ermöglichen so eine schnelle Lösung. Die Prozesskammerkonstruktion verhindert Leckagen und gewährleistet eine sauerstofffreie Umgebung für den sicheren Betrieb des Reaktors. Der Gesamtreaktor CONCEPT 2 Altus 2 ist eine fortschrittliche CVD-Reaktoreinheit, die speziell für Halbleiterbauelemente entwickelt wurde. Mit seiner einzigartigen linearen Roboter-Bewegungsmaschine, einem effizienten Gaslieferwerkzeug und einer fortschrittlichen Prozesssteuerung ist der Altus 2-Reaktor ein zuverlässiges und genaues Gerät für jeden Ablagerungsbedarf.
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