Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #181297 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 2 Altus ist eine hochspezialisierte und fortschrittliche PVD (Physical Vapor Deposition) Reaktorausrüstung. Es wird häufig verwendet, um dünne Filme aus abgeschiedenem Material auf großflächige Substrate wie Siliziumscheiben zur Verwendung in Halbleiter-, optoelektronischen und mikroelektronischen Bauelementen aufzubringen. Das System CONCEPT 2 Altus wurde entwickelt, um eine hohe Prozesssteuerung, Einheitlichkeit und Flexibilität mit dem Ziel der Optimierung der Prozessausbeute zu gewährleisten. Die PVD-Kammer wird von einem Linearmotor angetrieben, der eine gleichmäßige, stabile Umgebung zur gleichmäßigen Abscheidung bietet. Es verfügt auch über variable Substratgrößen, einstellbare Geschützpositionen, mehrere Zonen und zwei Quellen von Abscheidungsmaterialien, die zur Maximierung der Prozessgleichförmigkeit und des Durchsatzes beitragen. Die Kammer verfügt außerdem über einen schnellen, hochpräzisen Roboterarm, der Materialien schnell und präzise in die Kammer bewegt und belastet. NOVELLUS CONCEPT 2 Altus ist mit einer Vielzahl von Sensoren und Reglern ausgestattet, die den Prozess kontinuierlich überwachen und eine detaillierte Rückmeldung über die Gleichmäßigkeit der Reaktion liefern. Dadurch wird eine möglichst hohe Qualität und Wiederholbarkeit der dünnen Folien erreicht. Die Maschine enthält auch proprietäre Software, die verwendet werden kann, um den Abscheidungsprozess in Echtzeit zu überwachen, auszuwerten und anzupassen. Das Tool CONCEPT 2 Altus bietet Anwendern eine bessere Kontrolle über Prozessparameter, eine höhere Genauigkeit und Wiederholbarkeit sowie eine verbesserte Prozessstabilität. Es ist ein idealer Vorteil für diejenigen, die hochwertige dünne Folien schnell und effizient auf großflächige Substrate auftragen möchten. Die Kombination aus überlegener Leistung, Wiederholbarkeit und Flexibilität machen NOVELLUS CONCEPT 2 Altus Modell zur perfekten Wahl für Hochvolumen-PVD-Anwendungen.