Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #9095522 zu verkaufen

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Foto Verwendet NOVELLUS CONCEPT 2 Altus Zum Verkauf
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Verkauft
Reaktoren
Hersteller
NOVELLUS
Modell
CONCEPT 2 Altus
ID: 9095522
Wafergröße: 8"
Chemical vapor deposition (CVD) system, 8" Process: Shrink DLCM Non-shrink process modules SSD Module: Dual chamber Wafer type: Notch SECS/GEM Software: No Standard chamber Mainframe options: System controller: MC3 Signal tower: No AC Power rack: Standard Interconnect cables: No DLCM User interface: Adjacent to system Transfer robot type: BROOKS MTR 5 Paddle type: Standard Shuttle type: Standard Cassette type: No Indexer type: Type II Cool station: No SMIF loader type: No Manometer: Standard 100 Torr Facilities configuration: Either Control system: QNX4 Pump electrical interface: No Missing parts: Animatics type Leak check shutoff valve Process module A: Altus Controller type: MC3 IOC Version: 3.02 Gate and throttle valve: Internal, non-heated Process manometer: 100 Torr non-heated Heater pedestals: D-Type Shower heads: Yes MOER Rings: No Spindle assy seal type: Ferrofluidic X-Y Centering station: Yes Viewport window: Sapphire RF Match: Trazar Chamber process: Tungsten plug fill Full face coverage Module location: Center port Standard footprint Facility connections: Rear of chamber Module location: Center port (default) Missing parts: RF High frequency generator Endpoint detector Gas box: Standard 10 channel MFC Type: BROOKS 5964 MFC Size and location Channel Gas Flow (SLM) 1 Argon 2 SLM 2 Sih4 50 sccm 3 Hydrogen 20 SLM 4 Argon 20 SLM 5 Wf6 Missing 6 C2F6 2 SLM 7 Oxygen S SLM 8 Argon 10 SLM 9 Hydrogen 20 SLM 10 Nitrogen 10 SLM Process module B: Altus Gate and throttle valve: Internal, non-heated Process manometer: 100 Torr non-heated Heater pedestals: D-Type Shower heads: Yes MOER Rings: No Spindle assy seal type: Ferrofluidic X-Y Centering station: Yes Viewport window: Sapphire RF Match: Trazar Chamber process: Tungsten plug fill MOER Rings Sequel process module A center port Standard footprint RF Generator: No Optical endpoint detector: Yes Facility connections: Rear of chamber Module location: Right port Missing parts: RF High frequency generator Controller type Gas box: Standard 10 channel 10 Gas, missing 9 gas sticks MFC Size and location Channel Gas Flow (SLM) 5 Wf6 750 sccm (1-10) Missing.
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NOVELLUS CONCEPT 2 Altus (C2A) ist ein Hochleistungsreaktor für Plasmaätz-, Abscheide- und Sputteranwendungen in der Halbleiterindustrie. Das Gerät verwendet patentierte vertikale magnetische Technologie, die hohe Leistung mit einer großen Elektrodenfläche kombiniert, um eine überlegene Prozessstabilität zu erreichen. Der C2A Reaktor wird von einem 30 kW HF-Generator angetrieben, der es ermöglicht, großflächige Substrate mit schnellerem Durchsatz als ein Standardreaktor zu verarbeiten. Der Reaktor verfügt auch über ein modernes Auto-Tuning-System, das es ermöglicht, die Plasma-Prozessparameter für jeden bearbeiteten Wafer schnell und genau zu optimieren. Das C2A verfügt über ein einzigartiges vertikales Magnetfeld, das höhere Plasmatemperaturen und eine geringere Dichte als ein Standardreaktor erzeugen kann. Dieses höhere Energieplasma ermöglicht verbesserte Ätzraten und verbesserte Gleichmäßigkeit. Die C2A verwendet auch eine einstellbare obere elektrostatische Abschirmung, um Plasmaverunreinigungen und ein schwimmendes Spannfutter zu verhindern, um eine konsistente Substrattemperatur zu halten. Das C2A verfügt auch über mehrere Kammern für mehr Bearbeitungsflexibilität. Auf diese Weise können Benutzer mehrere Prozesse gleichzeitig oder nacheinander ausführen. Die fortschrittliche Gasmanagementeinheit des C2A sorgt für eine gleichmäßige Gasströmung und eine vollständige Gaskontrolle. Dadurch wird sichergestellt, dass die Prozessparameter unabhängig von der Substratgröße oder der Anzahl der verarbeiteten Substrate konsistent bleiben. Das C2A ist auch mit einer fortschrittlichen Steuerungsmaschine ausgestattet, mit der Benutzer die Prozessparameter in Echtzeit überwachen, anpassen und optimieren können. Dieses Tool verwendet eine erweiterte Benutzeroberfläche für einfache Bedienung und Software, mit der Benutzer Prozessrezepte für verschiedene Substrate und Anwendungen erstellen und speichern können. CONCEPT 2 Altus (C2A) ist ein hochzuverlässiger, fortschrittlicher Reaktor für die Halbleiterverarbeitung in den Plasmaätz-, Abscheide- und Sputterarenen. Sein 30 kW HF-Generator, der einstellbare obere elektrostatische Schild und das schwimmende Spannfutter sorgen für überlegene Prozessstabilität, während seine vertikale magnetische Technologie, seine einstellbare Gasmanagementkapazität und sein überlegenes Steuerungsmodell für überlegene Leistung sorgen. Die C2A ist die ideale Wahl für jede Halbleiterverarbeitungsanlage.
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