Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #9159135 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 2 Altus ist ein CVD-Reaktor (Single-Wafer Chemical Vapor Deposition), der speziell für die Abscheidung fortgeschrittener dünner Filme auf Halbleitersubstraten entwickelt wurde. Es wird bei der Herstellung von High-End-integrierten Chips und anderen elektronischen Geräten verwendet. Der Reaktor verwendet plasmaverstärktes CVD (PECVD), ein Verfahren, das einen hoch kontrollierten und gleichmäßigen dünnen Film über den Wafer erzeugt. Der Prozess beginnt mit einem erhitzten Gas, das mit einem hochdichten Ionenfeld gefüllt in die Reaktionskammer gelangt. Anschließend werden Reaktantgase von den Ionen zu einem dünnen Film auf der Substratoberfläche eingespritzt und vermindert. Der Reaktor ist als schlüsselfertiges System mit einfacher Installation und enger Prozesssteuerung konzipiert. Die Prozessparameter lassen sich schnell und präzise anpassen - damit Abscheidezyklen bei minimierten Produktionskosten mit optimalen Geschwindigkeiten ablaufen. CONCEPT 2 Altus ist in der Lage, mehrere Prozesskammern zu betreiben und hat eine maximale Temperatur von 800 ° C. Es hat eine hohe Effizienz und chemische Gleichmäßigkeit, und eine große gezielte Abdeckung Bereich, so dass es ideal für fortschrittliche Dünnschichtabscheidung. Verfahren, die am Reaktor durchgeführt werden können, umfassen Ätzen, Filmabscheidung und Oxidation von Halbleitersubstraten. Zusätzlich kann der Reaktor durch den Einsatz mehrerer Prozesskammern eine Vielzahl von gleichzeitigen Dünnschichtabscheidungsaufgaben ausführen. Der Reaktor ist zudem mit einer Ferndiagnose-Schnittstelle ausgestattet, mit der Bediener das System fernüberwachen und schnell beheben können. NOVELLUS CONCEPT 2 Altus ist ein effizienter und fortschrittlicher Reaktor, ideal für die Abscheidung von dünnen Schichten auf SMC und anderen Halbleitersubstraten. Es verfügt über ein fortschrittliches Temperatur- und Prozesskontrollsystem, das eine dichte und gleichmäßige Dünnschichtabscheidung über die gesamte Arbeitsfläche bereitstellt. Darüber hinaus ermöglicht sein Mehrkammerdesign eine gleichzeitige Dünnschichtabscheidung, die eine maximale Produktivität für die Dünnschichtherstellung bietet. Mit einer Ferndiagnose-Schnittstelle und einer maximalen Temperatur von 800 ° C ist CONCEPT 2 Altus ein ideales Werkzeug für fortschrittliche Dünnschichtabscheidungsaufgaben.