Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #9171171 zu verkaufen

Hersteller
NOVELLUS
Modell
CONCEPT 2 Altus
ID: 9171171
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2001
Chemical vapor deposition (CVD) system, 8" Process: CVD - Tungsten dep Module configuration: Standard Wafer type: Notch Module type: CVDW SMIF Type (2) Chambers Software: QNX2 / 4 Module controller: MC2 Pedestal assembly type: Ped assy, 200mm MORE, D, no flat, SEMI 0 Exclusion ring type: MOER 0 Exclusion ring lift type: 02-054427-01 0 DLCM Configuration: DLCM Type: Shrink Cassette interface: Platform Robot type: Mag7 (P/N: 003-1600-25) Arm set: Dual arm (P/N: 002-0016-14) Cool station: 3-Level Pressure gauge: Capacitance manometer, MKS (P/N: 750B12TCE2GK), 100Torr MYCROLIS Throttle valve MKS 651D-16202 Throttle valve controller ANIMATICS CDP2407-2 Indexer controller Slit gate valve (Chamber A, B): 02-121427-00, SMC, XGT-0402AWM-X16 Rev8 Slit gate valve (Loadlock A, B): 02-133793-00, SMC, XGT-0101AWM-X16 Rev1 Chamber configuration: Chamber A CVD - Tungsten Chamber B CVD - Tungsten Pedestals: 200 mm MOER: Pedestal 1 Pedestal 2-5 Clean: Insitu Millipore MDVX-100B Throttle valve 27-053468-00 Throttle valve controller VAT 14040-PE34-0003 Gate valve Pressure gauge: 100 Torr (Milipore, CDLD2106E), Backside 100 Torr (Milipore, CDLD2106E) 10 Torr (Milipore, CDLD1106E) RF Match: Trazer, AMU2-1 RF Configuration: HF RF Generator type: AE RFG 3000 MFC Size & Gas type: Chamber A: MFC1 / SLM / Ar MFC2 / 50SCCM /SiH4 MFC3 / 20SLM / H2 MFC4 / 20SLM / Ar MFC5 / 500SCCM/ WF6 MFC6 / 2SLM / C2F6 MFC7 / 2SLM / O2 MFC8 / 10SLM / Ar MFC9 / 20SLM / H2 MFCC / 2SLM / Ar MFCD / 20SLM / Ar MFCE / 500SCCM / WF6 UPC1 / SLM / Ar Chamber B: MFC1 / SLM / Ar MFC2 / 50SCCM /SiH4 MFC3 / 20SLM / H2 MFC4 / 20SLM / Ar MFC5 / 500SCCM/ WF6 MFC6 / 2SLM / C2F6 MFC7 / 2SLM / O2 MFC8 / 10SLM / Ar MFC9 / 20SLM / H2 MFCC / 2SLM / Ar MFCD / 20SLM / Ar MFCE / 500SCCM / WF6 UPC1 / SLM / Ar 2001 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Altus Reactor ist ein hochmodernes Werkzeug, das es Anwendern ermöglicht, fortschrittliche Halbleitermaterialien in einer fortschrittlichen Ätzumgebung zu verarbeiten. Der Altus Reactor ist ein All-in-One-System, das qualitativ hochwertige Ätzfunktionen mit hohem Durchsatz für alle Arten von verwandten Anwendungen bietet. CONCEPT 2 Altus Reactor wurde speziell entwickelt, um die Leistung des Ätzens sowie anderer Bearbeitungsschritte wie thermische Oxidation und Relamination zu verbessern. Es verwendet eine revolutionäre fortschrittliche Ätztechnologie, die induktiv gekoppeltes Plasma (ICP) mit hochpräziser reaktiver Ionenätzung (RIE) und direktionaler Ionenstrahlätzung (DIBE) kombiniert. Diese fortschrittliche Ätztechnologie bietet ultimative Schrittabdeckung, erweiterte Kontrolle von Ätzparametern, hohen Durchsatz, einheitliche Ätzraten über große Waferbereiche und geringe Schäden an der Waferoberfläche. Das Hauptmerkmal von NOVELLUS CONCEPT 2 Altus Reactor ist sein fortschrittlicher Ätzprozessor, der es Anwendern ermöglicht, die fortschrittliche Ätztechnologie des Systems voll auszuschöpfen. Dieser Prozessor ermöglicht nicht nur eine hohe Präzision der Ätzbedingungen, sondern gibt auch Einblick in die Ätzprozessoptimierung mit flexiblen Parametern und Echtzeit-Feedback. So können Anwender ihre Ätzrezepte schnell und präzise optimieren und so die bestmöglichen Endergebnisse ihrer Anwendungen gewährleisten. CONCEPT 2 Altus Reactor ist dank seiner fortschrittlichen automatischen Kalibrierungsfunktion einfach zu bedienen und zu warten. Diese Funktion ermöglicht es Benutzern, die Ätzkammer schnell und genau zu kalibrieren und sicherzustellen, dass alle Ätzprozesse mit höchster Präzision und Genauigkeit durchgeführt werden. In Kombination mit seiner fortschrittlichen automatischen Reinigungsfunktion und der fortschrittlichen Diagnose bietet NOVELLUS CONCEPT 2 Altus Reactor ein äußerst zuverlässiges und effizientes Ätzsystem. CONCEPT 2 Altus Reactor hebt sich durch seine fortschrittliche Ätztechnologie, seinen einzigartigen Prozessor und seine benutzerfreundlichen Funktionen von der Konkurrenz ab, die ihn zu einer idealen Wahl für jede Halbleiterätzanwendung machen. Seine fortschrittliche Ätztechnologie gewährleistet die bestmöglichen Ergebnisse für alle verwandten Ätzanwendungen und ist damit eine effektive, zuverlässige und qualitativ hochwertige Lösung für die Verarbeitung fortschrittlicher Halbleitermaterialien.
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