Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #9191508 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 2 Altus ist ein von NOVELLUS Systems, Inc. entwickelter Hochtemperatur-Metall-Organische Chemische Dampfabscheidung (MOCVD) Reaktor, der speziell für fortschrittliche Halbleiterherstellungsprozesse entwickelt wurde. Der Reaktor ist speziell für die Herstellung verbesserter Dielektrika und Metallschichten für integrierte Schaltungen auf Nicht-Silizium-Substraten ausgelegt. Der Reaktor basiert auf einer rohrförmigen Warmwandkonstruktion, die eine präzise Regelung sowohl der Temperatur als auch der Abscheiderate ermöglicht. Die Düse kann hohe Temperaturen von bis zu 1000 ° C aufrechterhalten und ihre geringe Größe ermöglicht eine extrem präzise Steuerung und hohe Reinheit. Seine temperaturgeregelte Kammer ist gut isoliert und ermöglicht präzise und stabile Prozessergebnisse auch bei Temperaturschwankungen aus der Außenumgebung. CONCEPT 2 Altus gehört zu den fortschrittlichsten MOCVD-Reaktoren von NOVELLUS Systems. Die fortschrittliche Computersteuerung ermöglicht die präzise Steuerung einer Vielzahl von Parametern wie Linienbreite, Dicke und Oberflächenrauhigkeit. Es ermöglicht auch eine präzise Kontrolle der Folienzusammensetzung, wodurch erweiterte Anwendungen wie die Abscheidung von ultradünnen Schichten und gleichmäßigen Legierungsfolien möglich sind. NOVELLUS CONCEPT 2 Altus nutzt zudem eine innovative thermische Sprühkühltechnologie zur Leistungssteigerung. Das integrierte Kühlsystem sorgt für erhöhte Stabilität und Gleichmäßigkeit der Ergebnisse. Der thermische Spray ermöglicht auch höhere Durchsatzraten und verbesserte Betriebseinheiten. Zusätzlich sorgt die aktive Vakuumpumpmaschine für schnelle Pumpabgänge, wodurch der Zeitaufwand zwischen den Prozessabläufen reduziert wird. Insgesamt ist CONCEPT 2 Altus ein fortschrittlicher und zuverlässiger MOCVD-Reaktor, der speziell auf die Anforderungen der strengsten Halbleiterherstellungsprozesse zugeschnitten ist. Sein innovatives Design- und Computersteuerungstool ermöglicht eine präzise Steuerung einer Reihe von Parametern und Folienzusammensetzungen, was komplexere Technologien und Anwendungen ermöglicht. Darüber hinaus verbessern seine integrierte Wärmesprühkühlung und sein aktives Vakuumpumpmodell seine Leistung drastisch und machen es zu einem unschätzbaren Vorteil in der Halbleiterindustrie.