Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #9202875 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 2 Altus ist ein Plasmareaktor der nächsten Generation, der zum hochpräzisen Ätzen und Abscheiden von dünnen Schichten für die Halbleiterherstellung verwendet wird. Dieser Reaktor wurde entwickelt, um die Produktion für fortgeschrittene Geräte wie FinFETs am Knoten 20nm und darunter zu optimieren. Es verfügt über eine Kammer mit hohem Aspektverhältnis und verwendet induktiv gekoppeltes Plasma (ICP), um Plasmaentladungen zu erzeugen. Die hohe Seitenverhältniskammer von CONCEPT 2 Altus wurde entwickelt, um die Präzisionsabscheidung und das Ätzen verschiedener Materialien zu verbessern. Mit einem Aspektverhältnis von 10:1 ermöglicht die Kammer eine größere Trennung zwischen Elektroden, was die Stabilität der zur Erzeugung von Plasmaentladungen verwendeten elektrischen Felder erhöht. Es bietet auch einheitliche Ionenbeschuss über seine volle Waferoberfläche. Darüber hinaus verfügt die Kammer über ein schlankeres vertikales Profil, das schnellere Übergänge zwischen verschiedenen Prozessen ermöglicht. Darüber hinaus wird NOVELLUS CONCEPT 2 Altus von einer ICP-Quelle angetrieben, die für eine Niedrignäherungshüllenkontrolle für eine bessere Ätzgleichmäßigkeit optimiert ist. Durch die Steuerung der ICP-Quelle können Plasmen mit großen Leistungsbereichen von ultra-niedriger bis hoher Leistung erzeugt werden, was eine genaue Kontrolle des Ätzens und Abscheidens verschiedener Materialien ermöglicht. CONCEPT 2 Altus nutzt auch effiziente Technologien wie Zykluszeiten, die bis zu 30% schneller sind als bisherige Systeme, und sein Wafer-Handoff-System, das die Effizienz der Waferbelastung erhöht. Es verfügt auch über Lastverschlusstechnologie, die eine schnelle Auffüllung von Prozessgas und sauberer trockener Luft ermöglicht, um die Verarbeitungszeit noch weiter zu reduzieren. Darüber hinaus integriert das System fortschrittliche intelligente Diagnosen und Alarme, die eine vorausschauende Wartung ermöglichen. NOVELLUS CONCEPT 2 Altus ist ein umfassendes Plasmareaktor-System der nächsten Generation, das effiziente, hochpräzise Ätz- und Abscheidefähigkeiten für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente bietet. Es nutzt die ICP-Technologie, um Plasmen mit genauer Kontrolle zu erzeugen, eine Kammer mit hohem Seitenverhältnis für einheitliches Ionenbeschuss, effiziente Technologien für schnellere Zykluszeiten und fortschrittliche intelligente Diagnostik, um eine optimale Leistung zu gewährleisten.