Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #9248936 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 2 Altus Reaktor ist ein CVD-Werkzeug (Chemical Vapor Deposition), mit dem sich extrem dünne Filme auf Substraten abscheiden. Es ist mit einer automatisierten Ladeblockausrüstung, einer oberen und unteren Gaszufuhr, einem ozonbasierten Reinigungssystem, einem fortschrittlichen 3-D-Reaktor und einer hochpräzisen Temperaturkontrolleinheit ausgestattet. Die automatisierte Ladeblockiermaschine erleichtert das Be- und Entladen von Substraten in die Kammer, was den Prozess erheblich vereinfacht und die Genauigkeit erhöht. Die „obere und untere Gasförderung“ bezieht sich auf das Gasförderwerkzeug, das einen Duschkopf, zwei Duschköpfe und Wandinjektoren umfasst, die hohe Abscheideraten ermöglichen und gleichzeitig eine genaue Kontrolle der Verteilung ermöglichen. Der fortschrittliche 3-D-Reaktor ist speziell für eine höhere Prozessgleichmäßigkeit und eine verbesserte Filmabscheiderate ausgelegt. Diese Anlage ersetzt viele der anderen traditionellen Waferöfen, die zur Ablagerung von Folien auf Substraten verwendet werden. Es bietet auch Präzisionstemperaturregelung, ermöglicht die Abscheidung von Filmen genau und gleichmäßig. Das ozonbasierte Reinigungsmodell bietet höchste Sauberkeit für die rückstandsfreie Abscheidung. Der Oxidationsprozeß eliminiert Partikel und organische Stoffe aus den Kammerwänden und Oberflächen vor der Abscheidung und verbessert so die Folienqualität. Die hochpräzise Temperaturkontrollausrüstung ermöglicht eine extrem genaue Temperaturregelung, die eine genaue und gleichmäßige Abscheidung von Folien ermöglicht. Es bietet auch die Fähigkeit, die Abscheidungszeit zu reduzieren und die Substratqualität zu verbessern. Insgesamt ist der CONCEPT 2 Altus Reaktor ein leistungsstarkes CVD-Tool mit fortschrittlichen Funktionen, die speziell entwickelt wurden, um die Folienqualität zu verbessern, die Abscheidezeit zu reduzieren und die Prozessgenauigkeit zu erhöhen. Mit seinem Ladesystem, der Gasfördereinheit, dem fortschrittlichen 3-D-Reaktor und der hochpräzisen Temperaturregelung liefert der Altus-Reaktor konsistente, qualitativ hochwertige Filme auf einer Reihe von Substraten.