Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2-CVDD-S #293776222 zu verkaufen

NOVELLUS Concept 2 CVDD S ist ein CVD-Reaktor, der speziell für die Abscheidung von Halbleitermaterialien entwickelt wurde. Es handelt sich um eine einzige Wafer-Ultrahochvakuumkammer, die dünne Filme aus Halbleitermaterial unter Verwendung eines Niederdruckgasgemisches aus Vorläufern erzeugt. Das Vorläufergas wird in die Kammer eingezogen und dann durch hohe in der Kammer erzeugte Temperaturen erhitzt und zersetzt. Dadurch entsteht eine dampfförmige Verbindung, die sich gleichmäßig dick auf dem Substrat abscheidet. Concept 2 CVDD S bietet Mixed-Mode-Verarbeitungsfunktionen und kann Nitride, Oxide, Polysilizium und SRD-Metalle abscheiden. Es ermöglicht auch eine schnelle, automatisierte Wafer-Handhabung für maximalen Durchsatz und verfügt über eine automatisierte Rezept-Setup-Funktion, die eine schnelle Umwandlung zwischen Zutaten für die Mischmodus-Abscheidung ermöglicht. NOVELLUS Concept 2 CVDD S nutzt ein modernes Design, um ultrahohe Abscheidungsrate Leistung und überlegene Gleichmäßigkeit zu bieten. Es verfügt über eine starre Wafer-Boot-Struktur gekoppelt mit einer optimierten Zwei-Netz-Stromversorgungsausrüstung, die Voltage-Down Time (VDT) reduziert und eine stationäre Prozesssteuerung ermöglicht. Die Kammer ist mit einem metallischen Balgschieber für eine überlegene Vakuumwartung abgedichtet, während das Stromversorgungssystem hohe Gleichmäßigkeit und stark wiederholbare Prozesse bietet. Darüber hinaus verfügt das Gerät über einen vollautomatischen Substrattransfermechanismus für eine verbesserte Wafer-Handling-Effizienz. Concept 2 CVDD S verfügt auch über eine fortschrittliche computergesteuerte Prozesssteuerungsmaschine mit programmierbaren Größen wie Gasdurchflussraten, Druck, Temperatur, Leistung und Fluss. Darüber hinaus bietet es eine breite Palette von Prozessüberwachungsfunktionen und Tuningfunktionen, die eine präzise Prozesssteuerung und eine schnelle Produktion ermöglichen. Darüber hinaus ist das Werkzeug wirtschaftlich, zuverlässig und wartungsarm. Zusammenfassend ist NOVELLUS Concept 2 CVDD S ein Ultrahochvakuum, Einzelwafer, CVD-Reaktor, der überlegene Abscheidungsraten, präzise Steuerung und ausgezeichnete Gleichmäßigkeit bietet. Es ist ideal für eine breite Palette von Halbleiteranwendungen und verfügt über Funktionen wie einen automatisierten Substrattransfermechanismus, eine Zwei-Netze-Energiezufuhranlage, programmierbare Parameter und eine Reihe von Prozessüberwachungsfunktionen. Es ist auch wirtschaftlich, zuverlässig und wartungsarm.