Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2 #9093690 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2 Reaktor ist ein chemisch verbesserter physikalischer Aufdampfreaktor (CEPVD), der zur Herstellung von hochvolumigen Halbleiterbauelementprodukten verwendet wird. Es basiert auf einer modularen Architektur, die verschiedene Anwendungen in verschiedenen dynamischen Konfigurationen unterstützt. Der Reaktor ist mit einer Doppelkammer ausgebildet, die eine Hochgeschwindigkeitsabscheidung in einer Kammer und eine niedrigere Geschwindigkeitsabscheidung in der anderen Kammer ermöglicht. Dadurch kann der Reaktor einen hohen Durchsatz halten und gleichzeitig Verbrauchskosten senken. Der Reaktor weist eine einzigartige thermisch unerreichte Bauweise auf, die die Waferprozesskammer von der Quellkammer trennt, so dass die Hochgeschwindigkeitsabscheidung durch thermische Schwankungen in der Quellkammer nicht beeinträchtigt wird. Diese thermische Isolation ermöglicht ein effizientes thermisches Management und konsistente Abscheideraten. Darüber hinaus verwendet CONCEPT 2 Dual Altus 2 eine Split-Deposition-Kammer, die die Abscheidung verschiedener Schichten innerhalb derselben Kammer ermöglicht. Durch diese Spaltkammerkonstruktion kann der Reaktor einfacher in die Halbleiterfertigungslinie integriert werden. NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2 Reaktor verwendet ein maßgeschneidertes Quarzrohr, das überlegenes Lasthandling, Temperaturgleichmäßigkeit und einheitliche Abscheideraten bietet. Es verfügt über ein fortschrittliches On-Wafer-Temperaturüberwachungssystem (OWTM), um zuverlässige Gleichmäßigkeit und Taylorgraphie-Leistungen zu gewährleisten. Das fortschrittliche OWTM ist in der Lage, schnelle Temperaturspitzen über Nanosekunden zu erkennen, wodurch thermische Gradienten über einen einzelnen Wafer gesteuert werden können. Dies trägt dazu bei, dass die Prozesse konsistent und zuverlässig laufen, indem die Echtzeit-Temperaturdaten für jeden Wafer überwacht und angezeigt werden. Ein wesentlicher Vorteil von CONCEPT 2 Dual Altus 2 Reaktor ist seine Fähigkeit, mehrere Vorläufer Chargen zu handhaben. Dadurch kann der Reaktor Wafer mit unterschiedlichen Plattformfortschritten in einer einzigen Charge verarbeiten. Die Einführung vorgelagerter Gasmischsysteme ermöglicht es NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2 auch, verschiedene Prozessparameter wie Druck, Temperatur und Gasfluss in Echtzeit einzustellen, was eine genauere Steuerung komplexer Abscheidungsprozesse ermöglicht. Insgesamt ist CONCEPT 2 Dual Altus 2 ein bewährter und zuverlässiger CVD-Reaktor, der hervorragende Gleichmäßigkeit und Produktionsraten bietet. Seine Fähigkeit, mehrere Vorläufer-Chargen zu handhaben, zusammen mit seinem fortschrittlichen On-Wafer-Temperaturüberwachungssystem, machen es zu einer idealen Wahl für die Produktion von Produkten für Hochvolumen-Halbleiterbauelemente.