Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2 #9093691 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2
ID: 9093691
Wafergröße: 8"
Chamber, 8" Facility and Interface: CVD tungsten Wafer type: SEMI Wafer cassette type: A198-80MB-47C02 - Fluoroware DLCM-S Heater manometers: Yes Altus module locations: Dual, Port 2 and 3 Facilities configuration: Bottom Remote interconnect cable length: 75 feet Transfer Module A Port location: Center Module B Port locationL Right Primary user interface: Adjacent user interface DLCM-S: Modular power distribution [MPD, DUAL, ALTUS, C2PDP]: 01-298450-11 Robot Assy, Mag7, Bisymmetrik arm, DLCM: 02-262359-00 Transfer module to chamber valve (SMC valve): 02-121427-00 Throttle valve kit, DLCM-S: 04-048579-02 Loadlock gate valve, SMC: 02-133799-00 Readiness kit (if ordered as a single altus): Dual Altus ready Software/Controls: Module controller type: 02-272554-00 (MC3) System controller type: 02-267883-00 (MC3) System software (QNX): 5.1 DLCM-S IOC: 0: Type: IOC, Firmware: 4.1 2: Type: IOC, Firmware: 4.1 3: Type: IOC, Firmware: 4.1 Altus IOC: 0: Type: SIOC, Firmware: 4.30 1: Type: SIOC, Firmware: 4.30 2: Type: SIOC, Firmware: 4.30 3 (MPD): Type: IOC, Firmware: 4.10 Chase UI Kit: 02-117110-00 Process Chamber Configuration: SHWRHD, 8", Style B: 03-00258-00 Assy, PED, 8" MOER, D.3, Semi: 02-033134-01 Excl ring, 8", 2.0 mm Oh, Semi: 15-032777-00 Indexer plate, HUB: 15-034848-00 Indexer, WF, Excl, Option, 8": 15-00934-02 Spindle assembly: 02-126697-00 Opt endpt det'r, MSTR, Alt-S: 04-120458-00 Throttle valve MKS (Pressure control valve): 27-250285-00 Gate valve: 60-10015-00 Gas Box Configuration: A Manifold: 1: Aera FC-7800 CD, Ar / 2 SLM 3: Aera FC-7810 CD, H2, 20 SLM B Manifold: 6: Aera FC 7810 CD, C2F6 / 2 SLM 7: Aera FC 7800 CD, O2 / 2 SLM D Manifold: 2: Aera FC-7800 CD, SiH4 / 100 SCCM H Manifold: D: Aera FC-7810 CD, Ar / 20 SLM W Manifold: 4: Aera FC-7810 CD, Ar / 20 SLM 5: Aera FC-7800 CD, WF6 / 1 SLM C Manifold: 8: Aera FC 7810 CD, Ar / 10 SLM 9: Aera FC 7810 CD, H2 / 20 SLM Baratron: Altus, CAP Manometer, Heated 100 Torr: 27-10340-00 Altus, CAP Manometer, Heater 10 Torr: 27-10343-00 Altus, Backside, CAP Manometer, Heated 100 Torr: 27-10340-00 DLCM-S, Loadlock, CAP Manometer, Heated 100 Torr: 27-10340-00 DLCM-S, TM, CAP Manometer, Heated 100 Torr: 27-10340-00 Supporting remote units: (1) Process pump per process chamber: BOC Edwards Ih1000 (1) Pedestal pump per process chamber: BOC Edwards i80 (1) TM Pump per system: BOC Edwards i80 (1) LL Pump per system: BOC Edwards i80.
NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2 ist eine hochmoderne Reaktorausrüstung für eine schnelle und effiziente Ätzverarbeitung. Es wurde speziell entwickelt, um schnelle Reaktionszeiten und eine überlegene Kontrolle der Ätzprozesse zu gewährleisten, um die Produktionserträge zu erhöhen. CONCEPT 2 Dual Altus 2 ist auf einer einzigen, gemeinsamen Substratplattform mit integriertem Kammerlayout aufgebaut, die Flexibilität und Optimierung der Verarbeitungsparameter ermöglicht. Diese Plattform kann bis zu vier Ätzkammern aufnehmen, um der zunehmenden Komplexität der Geräteanforderungen und Anwendungen gerecht zu werden. NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2 bietet konfigurierbare Plasma-, Gas-, Druck- und Temperaturregelungen zur präzisen Steuerung der Ätzprozesse. Der Ätzprozess kann auf spezifische Kundenanforderungen zugeschnitten werden, und das System behält eine enge Kontrolle über Profilform, Schichtdicke, Tiefe und Seitenverhältnis bei. CONCEPT 2 Dual Altus 2 nutzt die neueste Plasmaätztechnologie, einschließlich eines einzigartigen MESA (Multi-Etching Source Assisted) -Prozesses, der eine extrem hohe Ätzrate und hochanisotrope Ätzprofile ermöglicht. Die eingebauten Plasmaquellen nutzen sowohl eine kapazitive Kopplung als auch eine induktive Kopplung, was eine verbesserte Prozessflexibilität und eine verbesserte Profilsteuerung ermöglicht. Das Gerät ist zudem mit einer automatisierten Plasma- und Monitormaschine ausgestattet, die eine präzise Steuerung von Ätzparametern ermöglicht. Zusätzlich ist das Werkzeug mit integrierten Gasverteilungssystemen für einen gleichmäßigen Gasstrom sowie einer integrierten Temperaturregelung ausgestattet, um eine präzise Temperaturregelung des Ätzprozesses zu gewährleisten. NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus 2 bietet eine hervorragende Prozessgleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit bei gleichzeitig sehr anspruchsvollen Durchsatzanforderungen. Das Asset bietet darüber hinaus erweiterte Diagnosefunktionen sowie umfangreiche Prozessmonitoroptionen. Das Modell wurde umfassend qualifiziert, um zuverlässige qualitativ hochwertige Ergebnisse in einer Vielzahl von Ätzprozessen und -materialien zu gewährleisten. Dieses Gerät ist auch in der Lage, einen extrem hohen Volumendurchsatz zu erreichen, was eine flexible Fertigung und kürzere Zykluszeiten bei minimalen Ausfallzeiten ermöglicht. CONCEPT 2 Dual Altus 2 bietet eine fortschrittliche und flexible Ätzlösung, die den Anforderungen unterschiedlichster Industrieanwendungen gerecht wird.
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