Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus #9093684 zu verkaufen

ID: 9093684
CVD System Standard and PNL chamber Shrink chambers Frame has PNL option Module controller: MC1 P166 QNX4 IOC Version: 4.1 Shuttle type SMC L-motion slit valve Verify end point detector RFG 3000 Generator Power rack: MSSD.
NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus Reactor ist ein Dual-Sputter-Gerät mit einem einzigartigen Feature-Reset für die anspruchsvollsten Ätz- und Abscheidungsanwendungen. Es kombiniert reaktive Bereits-Fähigkeit mit überlegener Prozesssteuerung, um gleichbleibend hochwertige Ergebnisse zu gewährleisten. NOVELLUS CONCEPT-2 DUAL ALTUS 'einzigartige AC/DC/O2 Kontrolle, kombiniert mit Field Emission Source (FES) Technologie zur Verzögerung der Abscheidung, erhöht die Qualität und Gleichmäßigkeit der Beschichtungen auf großen Flächen. CONCEPT 2 Dual Altus basiert auf dem gleichen Rahmen wie sein Vorgänger, dem Concept 1, hat aber mehrere verbesserte Funktionen: Doppelkäfige für doppelt so viel Oberfläche behandelt, erhöhte Genauigkeit beim Sputtern, verbesserte mehrere Plasmaquellen und eine zusätzliche O2-Quelle. Die Doppelkäfig-Sputterkonstruktion reduziert das mögliche elektrische Feld, was zu einer unglaublich gleichmäßigen Abscheidung und erhöhter Filmhomogenität führt. Durch das Einsetzen eines Faraday-Käfigs zwischen der Plasmaquelle und dem Wafer ist CONCEPT-2 DUAL ALTUS in der Lage, die Plasmaumgebung des Arbeitsbereichs eng zu kontrollieren, um Lichtbogen und Kontamination zu verhindern. Darüber hinaus bietet NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus eine Reihe fortschrittlicher Prozesssteuerungsoptionen zur genauen Kontrolle von Abscheiderate, Gleichmäßigkeit und Dicke. Durch den Einsatz von Echtzeit-Feedback und fortschrittlichen Prozessalgorithmen kann NOVELLUS CONCEPT-2 DUAL ALTUS konsequent ein qualitativ hochwertiges Produkt produzieren. Darüber hinaus verfügt CONCEPT 2 Dual Altus über ein effizienteres Design zur Verbesserung der Prozesswiederholbarkeit und hat den O2-Verbrauch für einen umweltfreundlicheren Prozess drastisch reduziert. Schließlich ist CONCEPT-2 DUAL ALTUS in einer Vielzahl von Prozessumgebungen flink und vielseitig einsetzbar, mit einem modularen Design, das für verschiedene Anwendungen leicht modifiziert werden kann. Dank dieser Vielseitigkeit und Erweiterbarkeit können Kunden ihre bestehende Fact10-Umgebung um NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Altus und seine erweiterten Funktionen erweitern. Ob für verbesserte Abscheide- und Ätzprozesse oder spezialisierte Spezialanwendungen, NOVELLUS CONCEPT-2 DUAL ALTUS ist ein außergewöhnliches Werkzeug, das gleichbleibend hochwertige Ergebnisse erzielt.
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