Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express #9223972 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
Tippen Sie auf Zoom
ID: 9223972
System
User interface: C2-SCON5995
Wafer shape: Flat / Notch
No SMIF interface
No aligner option
Module A / B: Express
Process A: ARC
Process B: AEC
Load lock baratron model: Convectron
Index robot type: Index 2
TM Robot type: Mac 7
TM Robot blade: Metal
Wafer sensor: Existence
Signal tower
No fab installation
Module controller: MC1
Host interface: SECS
EMO: Push button
Front monitor: System UI LCD
Back monitor: CRT
No load lock dry pump
Slit valve insert
Slit valve type: SMC L-Motion
No TM dry pump
TM Throttle valve model: Millipore
TM Baratron model: MKS
Module A / B:
Chamber type: Express
Module controller: MC1
Chamber process: ARC
IOC Version:
IOC1 / 4.1
IOC2 / 4.1
IOC3 / 4.1
Manometer 1(10T): MKS
Manometer 2(1000T): MKS
Process clean type: Normal
HF Generator: AE RFG5500
LF Generator: AE PDX1400
RF Match: Mercury
Heater block type: (6) Stations
End point option: Dual head
Spindle top plate type: (6) Pieces
Spindle type: Ferrofluidic
Foreline gate heat option
Foreline gate valve: HVA
Throttle valve: MKS 2538-15665
Throttle valve heat option
Liquid IOC version: 4.1
No module dry pump
RF Isolation box missing
Pearl kit missing (N2O Treatment kit)
Gas / MFC Size / MFC / Model
N2 / 5 / SLM / Awra FC7800CD
N2 / 10 / SLM / Awra FC7800CD
N2O / 20 / SLM / Awra FC7800CD
NH3 / 10 / SLM / Awra FC7800CD
SÌH4 / 1 / SLM / Awra FC7800CD
O2/CF/ 20 / SLM / Awra FC7800CD
PH3/N2 / 2 / SLM / Awra FC7800CD
N2O / 1 / SLM / Awra FC7800CD
C2F6 / 5 / SLM / Awra FC7800CD
System:
Main power: 208 V, 3 Phase, 5 wires
UPS power: 120 V, 3 Phase, 3 wires.
NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express ist ein Reaktor, der für chemische Prozesse und Beschichtungen verwendet wird. Es ist mit zwei inneren rotierenden Rohren und einer flachen nachgeschalteten Abscheidekammer ausgestattet. Es wurde entwickelt, um den Durchsatz zu maximieren und gleichzeitig maximale Leistung zu bieten. Die Hauptkomponenten von CONCEPT 2 Dual Sequel Express sind die oberen und unteren Dampfstrahlinjektoren, die konzentrischen Rampen- und Prallplatten, die nachgeschaltete Dusche und die Hochdruck-Wasser/Gas-Ströme. Die oberen und unteren Dampfstrahlinjektoren sprühen zerstäubte Vorstufen in die Reaktionskammer, die dann erhitzt und umgesetzt werden. Die konzentrische Rampe und die Prallplatten erhöhen die Verweilzeit des Reaktionsgemisches, wodurch ein größerer Reaktionsgrad zwischen allen Komponenten möglich ist. Die nachgeschaltete Dusche soll die Abscheidung eines Reaktionsproduktes an der Innen- und Außenwand der Reaktionskammer ermöglichen. Schließlich sorgen die Hochdruck-Wasser/Gasströme für eine Gleichmäßigkeit der Reaktion innerhalb der Kammer. NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express hat die Fähigkeit, eine Vielzahl von Materialien zu verarbeiten, wie Acryl, Oxide, Silikone, Nitride, Karbide und andere. Es kann für chemische Dampfabscheidung (CVD), physikalische und chemische Dampfabscheidung (PECVD) und Sputterabscheidung verwendet werden. CONCEPT 2 Dual Sequel Express hat auch die Möglichkeit, thermische Abscheidungsoperationen zu verarbeiten. NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express bietet auch ein erweitertes Maß an Kontrolle, Analytik und Sicherheitsfunktionen. Es ist mit einem Remote-Produktionsmonitor ausgestattet, mit dem Benutzer die höchsten Prozessparameter verfolgen können, um eine präzise Kontrolle zu gewährleisten. Es verfügt auch über einen integrierten Touchscreen für eine verbesserte Benutzeroberfläche und Datenprotokollierung. Das Datenerfassungssystem liefert Daten und Analysen der Echtzeitproduktion in der Reaktorkammer, was einen Hinweis auf die Prozessgleichförmigkeit liefert. Schließlich verfügt CONCEPT 2 Dual Sequel Express auch über Sicherheitsfunktionen wie Prozessabschaltventile und Notabschalttasten. Insgesamt bietet NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express eine effiziente und sichere Methode der chemischen Verarbeitung und Beschichtung. Das fortschrittliche Kontrollniveau gewährleistet Präzision und Gleichmäßigkeit während jedes Prozesses. Der Remote-Produktionsmonitor und der integrierte Touchscreen machen den Prozess sehr benutzerfreundlich, was zu einer erhöhten Effizienz führt.
Es liegen noch keine Bewertungen vor