Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express #9223972 zu verkaufen

ID: 9223972
System User interface: C2-SCON5995 Wafer shape: Flat / Notch No SMIF interface No aligner option Module A / B: Express Process A: ARC Process B: AEC Load lock baratron model: Convectron Index robot type: Index 2 TM Robot type: Mac 7 TM Robot blade: Metal Wafer sensor: Existence Signal tower No fab installation Module controller: MC1 Host interface: SECS EMO: Push button Front monitor: System UI LCD Back monitor: CRT No load lock dry pump Slit valve insert Slit valve type: SMC L-Motion No TM dry pump TM Throttle valve model: Millipore TM Baratron model: MKS Module A / B: Chamber type: Express Module controller: MC1 Chamber process: ARC IOC Version: IOC1 / 4.1 IOC2 / 4.1 IOC3 / 4.1 Manometer 1(10T): MKS Manometer 2(1000T): MKS Process clean type: Normal HF Generator: AE RFG5500 LF Generator: AE PDX1400 RF Match: Mercury Heater block type: (6) Stations End point option: Dual head Spindle top plate type: (6) Pieces Spindle type: Ferrofluidic Foreline gate heat option Foreline gate valve: HVA Throttle valve: MKS 2538-15665 Throttle valve heat option Liquid IOC version: 4.1 No module dry pump RF Isolation box missing Pearl kit missing (N2O Treatment kit) Gas / MFC Size / MFC / Model N2 / 5 / SLM / Awra FC7800CD N2 / 10 / SLM / Awra FC7800CD N2O / 20 / SLM / Awra FC7800CD NH3 / 10 / SLM / Awra FC7800CD SÌH4 / 1 / SLM / Awra FC7800CD O2/CF/ 20 / SLM / Awra FC7800CD PH3/N2 / 2 / SLM / Awra FC7800CD N2O / 1 / SLM / Awra FC7800CD C2F6 / 5 / SLM / Awra FC7800CD System: Main power: 208 V, 3 Phase, 5 wires UPS power: 120 V, 3 Phase, 3 wires.
NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express ist ein Reaktor, der für chemische Prozesse und Beschichtungen verwendet wird. Es ist mit zwei inneren rotierenden Rohren und einer flachen nachgeschalteten Abscheidekammer ausgestattet. Es wurde entwickelt, um den Durchsatz zu maximieren und gleichzeitig maximale Leistung zu bieten. Die Hauptkomponenten von CONCEPT 2 Dual Sequel Express sind die oberen und unteren Dampfstrahlinjektoren, die konzentrischen Rampen- und Prallplatten, die nachgeschaltete Dusche und die Hochdruck-Wasser/Gas-Ströme. Die oberen und unteren Dampfstrahlinjektoren sprühen zerstäubte Vorstufen in die Reaktionskammer, die dann erhitzt und umgesetzt werden. Die konzentrische Rampe und die Prallplatten erhöhen die Verweilzeit des Reaktionsgemisches, wodurch ein größerer Reaktionsgrad zwischen allen Komponenten möglich ist. Die nachgeschaltete Dusche soll die Abscheidung eines Reaktionsproduktes an der Innen- und Außenwand der Reaktionskammer ermöglichen. Schließlich sorgen die Hochdruck-Wasser/Gasströme für eine Gleichmäßigkeit der Reaktion innerhalb der Kammer. NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express hat die Fähigkeit, eine Vielzahl von Materialien zu verarbeiten, wie Acryl, Oxide, Silikone, Nitride, Karbide und andere. Es kann für chemische Dampfabscheidung (CVD), physikalische und chemische Dampfabscheidung (PECVD) und Sputterabscheidung verwendet werden. CONCEPT 2 Dual Sequel Express hat auch die Möglichkeit, thermische Abscheidungsoperationen zu verarbeiten. NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express bietet auch ein erweitertes Maß an Kontrolle, Analytik und Sicherheitsfunktionen. Es ist mit einem Remote-Produktionsmonitor ausgestattet, mit dem Benutzer die höchsten Prozessparameter verfolgen können, um eine präzise Kontrolle zu gewährleisten. Es verfügt auch über einen integrierten Touchscreen für eine verbesserte Benutzeroberfläche und Datenprotokollierung. Das Datenerfassungssystem liefert Daten und Analysen der Echtzeitproduktion in der Reaktorkammer, was einen Hinweis auf die Prozessgleichförmigkeit liefert. Schließlich verfügt CONCEPT 2 Dual Sequel Express auch über Sicherheitsfunktionen wie Prozessabschaltventile und Notabschalttasten. Insgesamt bietet NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express eine effiziente und sichere Methode der chemischen Verarbeitung und Beschichtung. Das fortschrittliche Kontrollniveau gewährleistet Präzision und Gleichmäßigkeit während jedes Prozesses. Der Remote-Produktionsmonitor und der integrierte Touchscreen machen den Prozess sehr benutzerfreundlich, was zu einer erhöhten Effizienz führt.
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