Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express #9249030 zu verkaufen

NOVELLUS KONZEPT 2 Dual Sequel Express ist ein Hochleistungs-, Doppeldrucktiegel, Gruppenprozessreaktor entworfen spezifisch für den Absetzungsprozess in der Halbleitergerätherstellung. Es verfügt über zwei unabhängige, selbstabgestufte Plattenkammern, die in Tandem- oder Serien betrieben werden können, so dass gleichzeitig bis zu vier Prozessschritte in einer Kammer (Sputter, Etch, CVD usw.) durchgeführt werden können. Der sequentielle Prozess ermöglicht den höchsten Durchsatz jedes NOVELLUS Reaktors. Die Gesamtkapazität des Dual Sequel Express liegt bei etwa 60 Wafern pro Stunde, wobei maximal 8 Wafer das Prozessrezept bilden. Die Ausrüstung bietet hervorragende Gleichmäßigkeit bei hohem Durchsatz. Darüber hinaus ist der Workspace in hohem Maße einstellbar, wodurch Benutzer die Prozesse anpassen können, um die Schichtgleichmäßigkeit zu optimieren und die Reproduzierbarkeit der Abscheidung zu verbessern. Der Dual Sequel Express umfasst zudem ein ausgeklügeltes automatisiertes Produkt-Tracking-System und parametrische Steuerungen, um sicherzustellen, dass alle Einheitlichkeitsanforderungen des Prozessrezepts erfüllt werden. Es verfügt auch über eine Gasverteilungseinheit, die Gasmischung und Zerstäubung optimiert. Durch die Einstellung von Einspritzgeschwindigkeit und Druck bietet der Dual Sequel Express eine erhöhte Kontrolle über die in der Kammer ablaufenden Prozesse. Das Design des Dual Sequel Express sorgt dafür, dass es in einer Vielzahl von Materialien und Dielektrika-Produktionsprozessen eingesetzt werden kann. Es ist kompatibel mit Materialien wie p-type und n-type Si, SiGe und SiC. Darüber hinaus ist die Maschine gut ausgestattet, um fortschrittliche Materialien wie Kohlenstoff-Nanoröhren, Graphen und andere Nanomaterialien zu unterstützen. Darüber hinaus verfügt der Dual Sequel Express Reaktor über eine intuitive Benutzeroberfläche, mit der Anwender alle Prozesse im Reaktor einfach überwachen und steuern können. Diese intuitive Benutzeroberfläche ermöglicht es dem Bediener, neue Rezepte schnell und präzise einzurichten und Probleme problemlos zu beheben. Es bietet auch Selbstdiagnose für vorausschauende Wartung, die die Zuverlässigkeit des Werkzeugs erhöht. Insgesamt ist CONCEPT 2 Dual Sequel Express ein fortschrittlicher Doppelplatten-Batch-Prozessreaktor, der für den Abscheidungsprozess in der Halbleiterbauelementherstellung entwickelt wurde. Es verfügt über zwei unabhängige, selbstabgestufte Plattenkammern für den gleichzeitigen Betrieb, eine ausgeklügelte automatisierte Produktverfolgung, ein Gasverteilungsmodell, eine intuitive Benutzeroberfläche und eine Selbstdiagnose für die vorausschauende Wartung. Seine Kapazität beträgt bis zu 60 Wafer pro Stunde mit maximal 8 Wafern für das Prozessrezept, und sein einstellbarer Arbeitsbereich ermöglicht es Benutzern, den Prozess auf Einheitlichkeit und Reproduzierbarkeit abzustimmen.