Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express #9299473 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel Express Reactor ist ein CVD-Gerät (Chemical Vapor Deposition), das verwendet wird, um ultradünne Schichten von Materialien wie Oxide und Nitride auf einer Reihe von Substraten abzuscheiden. Das Gerät ist mit zwei separaten Sequel-Prozesskammern ausgestattet, von denen jede vier Dual-EndurTM-Prozessmodule umfasst. Die Sequel-Kammern sind für die Hochdurchsatzverarbeitung konzipiert, so dass Anwender dünne Filme im Vergleich zu alternativen chemischen Aufdampfsystemen mit bemerkenswert schneller Geschwindigkeit ablegen können. Das Concept 2 verfügt über ein hohes Maß an Vielseitigkeit und ermöglicht es Anwendern, Substrate bis 200 × 200 mm Größe mit mehreren Vorläufern in einer einzigen Charge zu verarbeiten. Die Dual Endur Prozessmodule bieten eine einheitliche Abscheide- und Durchflussregelung und verfügen über eine innovative diamantartige Beschichtung, die eine lange Lebensdauer und einen jahrelangen zuverlässigen Betrieb gewährleistet. Der Präzisionsabscheidungsprozess ist in hohem Maße wiederholbar und gewährleistet eine gleichmäßige Schichtdicke über die gesamte Oberfläche des Substrats. Das Concept 2 ist auch mit einem modularen Lastschlosssystem ausgestattet, das ein schnelles und einfaches Be- und Entladen von Material ermöglicht. Das Gerät verfügt über eine Niederdruck-Lastverriegelung, wodurch Materialien ohne zusätzliche Stickstoffquelle zwischen Vakuum und Umgebungsdruck übergehen können. Die Lastschlösser sind für eine Vielzahl von Substrathaltern ausgelegt, von einfachen Wafern bis hin zu Vollrahmenkassetten. Bei der Prozesssteuerung verwendet das Concept 2 eine Reihe fortschrittlicher Technologien, wie eine LCD-Touchscreen-Benutzeroberfläche, einen automatisierten Rezepteditor sowie eine Echtzeit-Temperatur- und Drucküberwachung. Das Gerät bietet auch Ethernet-Konnektivität, so dass Benutzer über ein Computernetzwerk aus der Ferne auf den Computer zugreifen und ihn steuern können. Insgesamt ist der CONCEPT 2 Dual Sequel Express Reactor die ideale Wahl für eine effiziente und präzise Abscheidung von dünnen Schichten auf verschiedenen Substraten. Der hohe Durchsatz und die überlegene Prozesskontrolle des Geräts machen es sowohl für Forschungsumgebungen als auch für Produktionsumgebungen gut geeignet und liefern zuverlässige Ergebnisse bei gleichzeitiger Senkung der Kosten und Energieeinsparung.