Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel #9092631 zu verkaufen
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ID: 9092631
Wafergröße: 6"
CVD system, 6"
Software: C2.SEQ_4.92B15
Operating system: QNX4
SECS GEM: Yes
Free cable length: 75 Ft
RF Cable length: 84 Ft
Indexer firmware: 2.0_G
Transfer robot: Brooks Mag 7
Chamber location: Left
Chamber model: C2-CVDD-S SEQX
EPD: Verity dual wavelength
Shower head: Al 6061 8" 16-033931-00
Handling wafer size: 6"
Heater block: No slot Sequel STN 1 pin 19-00154-04
Spindle speed: Standard
Fork assembly: Ceramic anti-deflect
15-101482-00
15-101482-01
15-00700-00
Fork type: Min Contact
15-053394-02
Spindle feed through: Ferro fluidic
Primary process gauge: 10T
Gate & throttle valve: Heated / Internal
02-260348-00
16210-0403QS-002HJR
MFC Type: Brooks GF100
IOC Software version: 4.2
RF Switching option: Yes
RPC (Remote plasma clean): No
HF RF Generator: AE Apex 5513
LF RF Generator: AE PDX 1400
RF Match AE mercury: 3013
Foreline heated: No
2.0 MFC C Open
MFC B N2 (10000 sccm)
MFC A N2O (20000 sccm)
MFC 9 NF3 (5000 sccm)
MFC 8 O2 (20000 sccm)
MFC 7 Open
MFC 6 NH3 (10000 sccm)
MFC 5 Open
MFC 4 Open
MFC 3 Open
MFC 2 N2 (5000 sccm)
MFC 1 SiH4 (1000 sccm)
Chamber location: Rear
Chamber model: C2-CVDD-S SEQX
EPD: Verity dual wavelength
Shower head: Al 6061 8" 16-033931-00
Handling wafer size: 6"
Heater block: No slot Sequel STN 1 pin 19-00154-04
Spindle speed: Standard
Fork assembly: Ceramic anti-deflect
15-101482-00
15-101482-01
15-00700-00
Fork type: Min Contact
15-053394-02
Spindle feed through: Ferro fluidic
Primary process gauge: 10T
Gate & throttle valve: Heated / Internal
02-260348-00
16210-0403QS-002HJR
MFC Type: Brooks GF100
IOC Software version: 4.2
RF Switching option: Yes
RPC (Remote plasma clean): No
HF RF Generator: AE Apex 5513
LF RF Generator: AE PDX 1400
RF Match AE mercury: 3013
Foreline heated: No
2.0 MFC C Open
MFC B N2 (10000 sccm)
MFC A N2O (20000 sccm)
MFC 9 NF3 (5000 sccm)
MFC 8 O2 (20000 sccm)
MFC 7 Open
MFC 6 NH3 (10000 sccm)
MFC 5 Open
MFC 4 Open
MFC 3 Open
MFC 2 N2 (5000 sccm)
MFC 1 SiH4 (1000 sccm)
System main power: 3ϕ 5Wires 208V
System UPS power: 3ϕ 3Wires 120V
SMIF Interface: No
Aligner option: No
Loadlock dry pump model: No
Slit valve insert: No
Slit valve type: SMC L-Motion
TM Dry pump model: No
TM Throttle valve: MKS 253B
TM BARATRON model: MKS
Front monitor: 12" LCD
Chase monitor : LCD
Loadlock BARATRON model: No
Indexer robot type: Indexer II
IOC Version: 4.1
TM Robot type: Mag 7
TM Robot blade: Ceramic
Software revision: 4.80 B22
Signal tower: Yes
Module controller: MC1
Host interface: SECS
Module A: Express
Process A: SiH4 Base
Module B: Express
Process B: SiH4 Base
System and DLCM:
MC1 (P166 64M) System
DLCM Module controller
MSSD (2 Sequel configuration) power rack
Upgrade 4 cool station
SiH4 Base oxide process
Signal cables
RF Coaxial cables
MKS 253B throttle valve
651D Throttle valve controller
MAG 7 Transfer robot
Dual arm
Indexer robot
Animatics controller
Standard shuttle assy
Chase PC and table
Generator rack
Process module:
Chamber type: Shrink
Chamber process: SiH4 base
Process clean type: In Situ
Endpoint option: No
Module controller: MC1
Heater block type: Standard
Module dry pump: No
Manometer 1(10T): MKS 627A11TBC
Throttle valve: MKS 253B-15665
Spindle topplate type: Standard
IOC2 option: Ver 4.1
Manometer 2(100T): MKS 627A13TBC
HF Generator: RFG5500
LF Generator: PDX1400
RF Match: AE Mercury 3013
TEOS Delivery cabinet: No
IOC Version: 4.1
Foreline gate heat option: Yes
Foreline gate valve type: HVA
Chamber gas box:
Gas name MFC Size MFC Model
SiH4 1 SLM AERA 7800
N2A 5 SLM AERA 7800
N2B 10 SLM AERA 7800
N20 20 SLM AERA 7800
NH3 10 SLM AERA 7800
O2 20 SLM AERA 7800
C2F6 5 SLM AERA 7800
Module A :
Gas filters
Gas box
HF and LF RF Generators
RF Matching network
Lower spindle assy
Ferrofluidic spindle Assy
Bottom and top plates
10Torr and 1000Torr manometer
Heated type HVA gate and MKS throttle valves
Throttle valve controller
Upgrade MC1 (P166 64M) module controller
Ceramic type spindle fork assy
O-Rings
Metal parts in chamber
Watlow temp controller
Window shappire
Heater ISO box
TC gauge
MFC's
Heater block (OPM)
Shower head
RF and heater feedthru
2000-2001 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Sequel ist ein Reaktor, der von NOVELLUS Systems, Inc., einem führenden Anbieter plasmabasierter CVD-Systeme (Chemical Vapor Deposition), entwickelt und hergestellt wurde. Der Reaktor wird bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen in Teil- und Ultra-Mikron-Größen eingesetzt und eignet sich gut für die Serienfertigung dieser Bauelemente. Dieser Reaktor verfügt über eine einzigartige Doppelkammer-Konstruktion, die zwei getrennte Kammern verwendet, um Materialien auf einem Substrat abzuscheiden. Der Dual Sequel Reaktor nutzt für Abscheideprozesse einen Kammerdruck von bis zu 10 Torr, der von sehr geringen bis zu hohen Filmdicken reicht. Es enthält auch eine Detektoreinheit zur ständigen Überwachung des Abscheideprozesses. Zur Erhaltung der thermischen Gleichmäßigkeit über den Wafer verfügt der Reaktor über eine Waferkühlung, die nachteilige Auswirkungen von Wandtemperaturänderungen verringern soll. Darüber hinaus trägt dieses Merkmal auch dazu bei, Verunreinigungen aus dem Prozess zu beseitigen. Der Dual Sequel Reaktor verfügt über eine einzigartige Verriegelungseinrichtung, die über eine gemeinsame Vakuumleitung die Prozesskammern miteinander verbindet. Diese Verriegelung sorgt dafür, dass beide Kammern im Tandem arbeiten und damit zuverlässige und gleichbleibende Leistung bringen. Die Verriegelung hilft auch bei der Regelung des Drucks im gesamten System, so dass der Kammerdruck im vorgesehenen Bereich bleiben. Weitere Merkmale sind eine hocheffiziente Gasfördereinheit, die den Einsatz von Prozessgasen minimiert. Die Maschine arbeitet auch in einem speziellen „Half-On“ -Modus, der verwendet werden kann, um den Prozess zu beschleunigen, indem eine Reihe von Prozessen gleichzeitig durchgeführt werden. Darüber hinaus bietet der Dual Sequel durch seine fortschrittlichen Sicherheitsfunktionen wie ein Notpumpenwerkzeug und eine Sicherheitsverriegelung auch ein höheres Sicherheitsniveau. Insgesamt ist der CONCEPT 2 Dual Sequel Reaktor ein fortschrittliches, hochdurchsatz- und zuverlässiges CVD-Werkzeug, das sich gut für die Serienfertigung kleiner Halbleiterbauelemente eignet. Sein einzigartiges Dualkammer-Design bietet eine höhere Abscheidung und Temperaturregelung, während sein Interlock-Asset einen einheitlicheren und effizienteren Prozess ermöglicht. Es verfügt außerdem über eine Reihe von Funktionen, die die Sicherheit verbessern, Prozessgase minimieren und den Durchsatz steigern sollen.
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