Gebraucht NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel #9237572 zu verkaufen
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ID: 9237572
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2001
CVD Systems, 8"
Mainframe
Gas box: Standard with dual divert
Robot: Express dual blade
Cool down: 3 Slots
Endpoint: Dual wavelength endpoint
Sequel chamber:
Sequel express TEOS
Sigma 6 TEOS Cabinet
(2) PFEIFFER 1600L Turbo Speed chambers
2001 vintage.
NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel ist ein fortschrittlicher physikalischer PVD-Reaktor, der hochwertige Beschichtungen auf verschiedenen Produkten herstellt. Dieser Reaktor ist mit zwei magnetischen Lichtbögen ausgestattet, die energiereiche Ionen erzeugen und eine schnelle Neigung der Abscheidungsschicht ermöglichen. Es verfügt auch über Zweigeschwindigkeitsabscheidung, was bedeutet, dass es schnell zwischen hohen und niedrigen Abscheideraten wechseln kann. Dieser flexible und energieeffiziente Reaktor kann in verschiedenen Branchen eingesetzt werden, um Produkte zu beschichten, die von medizinischen und optischen Teilen bis hin zu Automobilteilen und Halbleitern reichen. Concept 2 Dual Speed Sequel PVD-Reaktor besteht aus einer Kammer, die eine breite Palette von Substraten aufnehmen kann, und einem Controller, der die Stromversorgungen umfasst. Die Kammer ist zur einwandfreien Begrenzung des Plasmas innen mit Gasöffnungen ausgekleidet. Es kann mehrere Substrate gleichzeitig aufnehmen, so dass die Produktionsrate hoch ist. Der Vakuumbetrieb ist durch den Einsatz von zwei Stufen wiederaufladbarer Kryopumpen möglich. Eine integrierte Widerstandsheizung kann bei Bedarf die Substrattemperatur weiter erhöhen. Herzstück des NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel PVD Reaktors ist die Lichtbogenkammer. Es besteht aus einer doppelwandigen Edelstahlkonstruktion, und die Lichtbogenkammer ist mit zwei Lichtbogenelektroden mit jeweils mehreren Anoden ausgestattet. Es ist auch mit einer Ionenquelle ausgestattet. Die Lichtbogenkammer ist mit einem Inertgas zurückgefüllt, was eine schnelle Steigung und eine präzise Kontrolle der Abscheidung ermöglicht. Der Controller des Concept 2 Dual Speed Sequel PVD Reaktors ist mit der Lichtbogenkammer verbunden und verfügt über separate Stromversorgungen für jede der beiden Lichtbogenelektroden. Es kann auch manuell oder über Computer gesteuert werden. Es beinhaltet Software, die eine optimale Steuerung der Abscheideprozesse ermöglicht, wie z.B. die Erstellung der Parameter in Abhängigkeit von der Art des Substrats und den gewünschten Beschichtungseigenschaften. NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel PVD Reaktor ist ein hochentwickeltes PVD-System, das hochwertige Beschichtungen herstellt, die extrem langlebig sind und verschiedenen Standards entsprechen. Dank seiner benutzerfreundlichen Oberfläche und der flexiblen Abscheidbarkeit ist dieser Reaktor ideal für verschiedene industrielle Anwendungen, die eine präzise Beschichtung und präzise Steuerung erfordern.
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