Gebraucht NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel #9281515 zu verkaufen

NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel ist ein CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der zur Abscheidung dünner Filme bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Dieser Doppeldruck- und Doppeltemperaturreaktor verwendet zwei Pumpen, um die Reaktandenkonzentration zu steuern und die Temperaturen innerhalb der Kammer zu steuern. Die Doppeldruckpumpe bietet eine größere Gasdurchflussregelung, die sich ideal für die Optimierung von CVD-Anwendungen eignet. Concept 2 Dual Speed Sequel ist ein Polysilizium-Abscheidungsreaktor; es zeigt einen Hochdruck Hochleistungsreaktionszone, die zwei Pumpen zwischen dem in einer Prozession gehenden Raum und dem Gaslieferplenum hat. Die erste Pumpe ist die Vorläufergaspumpe, die die dabei eingesetzten Vorläufer fördert. Die zweite Pumpe ist die Reaktionsdruckpumpe, die innerhalb der Reaktionszone einen konstanten Druck aufrechterhält, wodurch eine genaue Regelung der Reaktionskonzentration möglich ist. Doppelgeschwindigkeitsfortsetzung des Konzepts 2 von NOVELLUS zeigt auch eine Hochleistungs-, Unterdruckreaktionszone, die mit zwei richtig großen Flussklappen ausgestattet wird. Das erste Ventil ist das Niederdruckventil, das die Einleitung von Prozessgasen in den Reaktionsraum regelt, und das zweite Ventil ist das Hochdruckventil, das die Verweilzeit und Konzentration der Prozessgase einstellt. Diese beiden Ventile ermöglichen eine präzise Manipulation und Steuerung der Filmabscheiderate und Filmqualität. Concept 2 Dual Speed Sequel verfügt über einen doppelten Temperatureinsatz, um eine effiziente Heizung und Kühlung zu ermöglichen. Der doppelte Temperatureinsatz trägt zur Optimierung der Temperaturprofile innerhalb des Reaktors bei und ermöglicht so höhere Produktionsausbeuten. Der Einsatz ist mit eng beabstandeten Heizelementen ausgestattet, die eine gleichmäßige Temperaturregelung und schnelles zeitliches Ansprechen ermöglichen. Diese Elemente sorgen auch für eine gleichmäßige Temperatur durch die gesamte Reaktionszone. NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel verfügt über eine fortschrittliche Controller-Einheit mit einer intuitiven und benutzerfreundlichen Benutzeroberfläche. Dieser Controller verfügt über eine grafische Benutzeroberfläche (GUI), die eine detaillierte Bearbeitung von Prozessparametern ermöglicht. Diese GUI bietet auch Echtzeit-Überwachungsfunktion und ermöglicht es dem Benutzer, Prozessparameter im Handumdrehen anzupassen. Concept 2 Dual Speed Sequel ist ein fortschrittliches CVD-Reaktorsystem, das eine effiziente und präzise Abscheidung von dünnen Filmen ermöglicht. Sein Doppeldruck- und Dualtemperatursystem ermöglicht eine präzise Steuerung der Prozessparameter, während die enge Temperaturregelung eine höhere Produktionsausbeute ermöglicht. Das fortschrittliche Controller-System ist auch eine willkommene Ergänzung, da es eine Echtzeit-Prozessmanipulation ermöglicht. All diese Eigenschaften machen NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel zu einem idealen Werkzeug für die Dünnschichtabscheidung.