Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Speed #9096020 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Speed ist ein von NOVELLUS Systems entwickelter Hochleistungsgasreaktor, Inc.to einer Vielzahl industrieller Halbleiterherstellungsanforderungen gerecht zu werden. Der Reaktor ist für die Verarbeitung von großvolumigen Waferprodukten in einem kontinuierlichen System ausgelegt und bietet zwei Geschwindigkeiten. Die Dual Speed-Version umfasst zwei Kammersätze, die sowohl Langzeit-Niederdruckprozesse als auch kürzere Dauer-Hochdruckprozesse durchführen können. Das Zwei-Gang-Setup ermöglicht maximalen Durchsatz und Flexibilität in der Waferbearbeitung. Es verwendet eine hocheffiziente Gas-Fluxed-Prozesstechnologie, die extrem niedrige Kammerdrücke aufgrund geringer Gasbelastung erzielen kann. Das geschlossene Gassystem soll prozessbedingten Gasverbrauch und Betriebskosten reduzieren. Der Reaktor ist mit fortschrittlichen kryogenen Systemen ausgestattet, um eine hochpräzise Kontrolle der Wafertemperaturen zu gewährleisten. Die Dual Speed beinhaltet auch eine integrierte Durchflussregelung, um die Reaktorumgebung zu optimieren und eine präzise Prozesssteuerung zu gewährleisten. Die Konstruktion des Reaktors basiert auf einer modularen Architektur. Die maximale Kammergröße beträgt 22ins x 14ins mit insgesamt 8 Kammern, was eine effiziente Waferbearbeitung bei minimalem Platzbedarf ermöglicht. Jede Kammer kann bis zu 16 4-Zoll-Wafer oder 8 6-Zoll-Wafer für eine erhöhte Fertigungskapazität aufnehmen. Jede Kammer ist auch mit spezieller Temperaturregelung und präziser Gaszufuhr für eine optimale Prozesssteuerung ausgestattet. CONCEPT 2 Dual Speed Reaktor verfügt auch über integrierte Robotik für nahtloses Wafer-Handling. Der Roboterarm ist mit einer intuitiven Benutzeroberfläche programmiert, die eine einfache Bedienung und schnelle Waferübertragungszeiten ermöglicht. Der Roboterarm verfügt über eine zentrale Lagerfläche und kann gleichzeitig bis zu 48 Wafer pro Zyklus verarbeiten. Insgesamt ist der NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Speed Reaktor ein leistungsstarkes, fortschrittliches gasgetriebenes System, das den Anforderungen der industriellen Halbleiterherstellung gerecht wird. Mit Zweigang-Betrieb, effizientem Raummanagement, ausgeklügelter Temperaturregelung, präziser Gaslieferung, intuitiver Benutzeroberfläche und integrierter Robotik bietet dieser Reaktor die Möglichkeit, strenge Anforderungen an die Waferbearbeitung zu erfüllen.