Gebraucht NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Dual Express #9361977 zu verkaufen

NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Dual Express
ID: 9361977
System.
NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel Dual Express ist eine Art großflächiger CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der bei der Herstellung integrierter Schaltungen verwendet wird. Der Reaktor ist ein Doppelkammerdesign, das parallel laufen kann, so dass mehrere Schichten aus Siliziumdioxid (SiO2) und anderen Materialien in einem einzigen Prozess abgeschieden werden können. Der Konzept-2-Sequel-Reaktor ist so konzipiert, dass Chiphersteller effizient und kostengünstig integrierte Schaltungen bauen können. Der Reaktor besteht aus zwei Kammern: einer Prozesskammer und einer Nachladekammer. Die Prozesskammer ist dort, wo die eigentliche Abscheidung der Materialschichten erfolgt; die Nachladeraum beherbergt die Abscheidungswerkzeuge und Materialien. Die Kammern sind durch eine Reihe von Rohren und Ventilen verbunden, so dass die Bewegung von Materialien in und aus der Prozesskammer ermöglicht. Jede Kammer ist mit einem eigenen Satz von Temperatur-, Druck- und Gasströmungssensoren und Reglern ausgestattet. CONCEPT 2 Sequel Dual Express Reaktor ist für den Betrieb im „Dual Express“ Modus ausgelegt, bei dem zwei Abscheideschritte gleichzeitig durchgeführt werden. Dies ermöglicht die gleichzeitige Abscheidung zweier Materialschichten, was eine wesentlich schnellere und effiziente Fertigungszeit ermöglicht. Es ermöglicht auch die Abscheidung von Materialien mit unterschiedlichen Eigenschaften, wie Kristallorientierung, ohne zwischen verschiedenen Abscheidekammern wechseln zu müssen. Der Reaktor wird von einer 300mm Brennerheizung mit fortschrittlicher Temperatur- und Gleichmäßigkeitskontrolle angetrieben, die eine genaue Kontrolle der Ofentemperaturen ermöglicht. Es verwendet auch fortschrittliche Gaszufuhrsysteme und Partikelfiltration und Einfangen. Diese Funktionen kombinieren einen zuverlässigen und wiederholbaren CVD-Prozess. Der Reaktor ist für den Einsatz bei der Herstellung integrierter Schaltungen wie Transistor-Gate-Oxide, Passivierungsschichten und Kontaktschichten ausgelegt. Der Konzept-2-Sequel-Reaktor wurde entwickelt, um sowohl in der Forschung als auch in der Fertigung zu arbeiten und eine zuverlässige Lösung für die wachsende Nachfrage nach Hochleistungs-integrierten Schaltungen zu bieten. Mit seinen fortschrittlichen Eigenschaften bietet der Reaktor die Möglichkeit, qualitätsgesicherte Hochleistungsgeräte kostengünstiger herzustellen als herkömmliche Abscheideverfahren.
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